Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 #293634691 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500
ID: 293634691
Wafergröße: 8"
Dry etcher, 8".
TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 ist eine Etcher/Asher-Ausrüstung, die für fortschrittliche Plasmaätz- und Abscheidungsprozesse in der Halbleiter- und Flachplattenindustrie entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um die Kosten für die Prozessentwicklung und -fertigung zu senken und gleichzeitig einen höheren Durchsatz und eine höhere Genauigkeit als herkömmliche Systeme zu erreichen. TEL TE 8500 kann mehrere Substrate gleichzeitig verarbeiten, kombiniert mit einer hochdichten Plasmaquelle bis zu 25 Standorten und ist für Präzisionsätz- und Dotierungsoperationen optimiert. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Technologien zur Temperaturregelung und Prozessvisualisierung ausgestattet, um die Verarbeitungsbedingungen für eine verbesserte Effizienz und Prozessgleichförmigkeit zu überwachen und zu optimieren. Es ist auch in der Lage, eine Vielzahl von Waferdurchmessern, Substratgrößen und Prozessrezepten unterzubringen. TOKYO ELECTRON TE 8500 verwendet eine proprietäre Schwimmfutter-Technologie, die lokale thermische Belastung vermeidet und eine optimale Temperaturregelung und Genauigkeit während des Dauerbetriebs gewährleistet. Es ist in der Lage, mehrere Prozesskammern mit spaltfreier Ausrichtung zu verwalten, um eine gleichmäßige Prozessentladungsverteilung zu gewährleisten. Die Maschine kann auch Temperaturmessungen von jedem Futter in der Ätz-/Ascherkammer mit einer Latenz von nur 1 Millisekunde und einer Temperaturstabilität von besser als 1 ° C durchführen. Diese hochpräzise Temperaturregelung ist entscheidend für eine höhere Ausbeute und längere Waferlebensdauer im Halbleiterherstellungsprozess. TE 8500 enthält auch eine Reihe fortschrittlicher Tools zur Plasmasteuerung und Prozessüberwachung, um einen äußerst zuverlässigen und reproduzierbaren Ätz- und Abscheidungsprozess zu gewährleisten. Es nutzt die Spektralanalyse zur Echtzeit-Charakterisierung des Plasmas, ermöglicht die Anpassung von Plasmaparametern mit wenigen Klicks und bietet eine visuelle Prozessüberwachung im Rezept-Editor, um den Prozessfortschritt zu verfolgen und zu analysieren. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 in der Lage, hochauflösende Aufzeichnungen von Ätz- und Dotierungsprozessen aufzunehmen und ermöglicht es Benutzern, Prozessrezepte leicht zu modifizieren, um die Leistung zu optimieren. Darüber hinaus ermöglichen die benutzerfreundlichen Schnittstellen- und Fernbedienungsfunktionen des Tools eine effiziente Zusammenarbeit zwischen Prozessingenieuren, Substrattestern und Prozessbetreibern, was die Prozessentwicklung und -verbesserung fördert. Insgesamt ist TEL TE 8500 ein fortschrittliches Ätz- und Ascher-Asset, das effiziente Prozesssteuerung, zuverlässige Leistung und benutzerfreundliche Funktionen kombiniert, um hochgenaue Ätz- und Dotierungsoperationen zu ermöglichen. Sein robustes Design und seine hochpräzise Prozesssteuerung machen es zu einer idealen Wahl für Halbleiter- und Flachplattenproduktionsprozesse.
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