Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 #9195649 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500
ID: 9195649
Plasma etcher.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 ist eine vollautomatische, hochdurchsatzgesteuerte Ätz-/Aschereinrichtung, die für die anspruchsvollsten Anwendungen entwickelt wurde. Mit präziser Prozesskontrolle und schnellen Antworten erfüllt der Ätzer/Ascher die strengen Anforderungen der anspruchsvollsten Kunden. TEL TE 8500 besteht aus einem Kammerkörper mit drei Temperaturzonen, einem Trennventil, einem Abgaskanal und einem dreistufigen thermischen Filter für Sicherheit und Umweltverträglichkeit. Die Kammer ist aus Edelstahl gefertigt und verfügt über eine große Frontöffnung, die einen maximalen Durchsatz an Proben ermöglicht. Eine Duplexpumpe sorgt für Prozessempfindlichkeit bei der Steuerung von Chlor- und Fluorionen. Die Kammer ist mit einem elektrostatischen Spannfutter ausgestattet und kann eine Vielzahl von Substraten handhaben. TOKYO ELECTRON TE 8500 verfügt über eine Touchscreen-Schnittstelle, die programmierbare Rezepte und Datenspeicherung ermöglicht. Das System unterstützt wiederholbare Ätzvorgänge mit höchster Effizienz und Genauigkeit. Es gibt mehrere Standard-Betriebsarten, darunter manuelle, Expert-Etch und Multi-Etch, die jeweils unterschiedliche Steuerungsebenen bieten. Der Multi-Etch-Modus kann beispielsweise eine unabhängige Steuerung von Ätzparametern ermöglichen, die mit Variationen von Ätzzeit, Temperatur und Gaszusammensetzung programmiert werden können. TE 8500 ist mit einer Vielzahl von optionalem Zubehör ausgestattet, wie einem oberen und unteren Temperatursensor, Ozonwäscher, ionischer Reinkammer und Fernüberwachungseinheit. Darüber hinaus verfügt die Ätzkammer über einen Dual-Pane-View-Port, der eine Beobachtung der Innenseite des Ätz- oder Aschevorgangs ermöglicht. Dieser View Port unterstützt auch die Online- und Offline-Analyse von wellenlängendispersiven Röntgenspektren. TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 Ätzer/Ascher wurde entwickelt, um zuverlässige, reproduzierbare Ergebnisse in einer Vielzahl von Anwendungen zu liefern, einschließlich der Herstellung von Dünnschichtverdünnern und -beschichtungen, Wafer- und Halbleiterherstellung und Lithographie. Die Maschine bietet eine präzise Steuerung der Ätz- und Ascheparameter, die wiederholbare Ergebnisse bei geringer oder keiner Wartung ermöglicht.
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