Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 #9235829 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 ist ein Ätzer/Ascher, ein Gerät zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, das durch den Ätzprozess Material auf und von der Waferoberfläche abscheidet und entfernt, was im Vergleich zu manuellen Methoden eine höhere Genauigkeit ermöglicht. Insbesondere TEL TE 8500 ist ein multifunktionales Werkzeug, das in einer Vielzahl von Prozessen eingesetzt werden kann, vom einfachen Ätzen bis hin zum komplexen sequentiellen Ätzen und Aschen. Es weist mehrere Merkmale auf, die es für den Einsatz bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen besonders geeignet machen. Für Starter kann es zum sequentiellen Ätzen verwendet werden, wodurch mehrere Ätzschritte im gleichen Verfahren mit präziser Kontrolle über jede Ätzschicht kombiniert werden können, was zu qualitativ hochwertigen Produkten führt. Darüber hinaus verfügt es über eine breite Palette von Gas- und Chemikalienfördermöglichkeiten, so dass der Anwender geeignete Gase und Chemikalien auswählen kann, die zum Ätzen oder Aschen benötigt werden. Das hochpräzise System TOKYO ELECTRON TE 8500 ermöglicht eine präzise Steuerung der Ätztiefe mit einer Genauigkeit von +/- 0,1 Mikrometern, was komplizierte und komplexe Ätzprozesse ermöglicht. Seine hochtransparente Quarzkammer ermöglicht die visuelle Inspektion des Wafers und sein hoher Ionenstrom sorgt für ein gleichmäßiges Ätzen über die Oberfläche. Darüber hinaus hat es auch eine schnelle Abklingrate, die Schäden am Wafer minimiert, die Defektivität reduziert und eine schnellere Wenderate ermöglicht. Darüber hinaus ist sein Temperaturregelungssystem in der Lage, eine genaue und stabile Temperatur aufrechtzuerhalten, was konsistentere Ätzergebnisse ermöglicht. Darüber hinaus ist TE 8500 auch mit verschiedenen Wafergrößen kompatibel und ist somit ein vielseitiges Werkzeug, das für den Einsatz in einer Vielzahl von Prozessanwendungen geeignet ist. Zusammenfassend ist TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 ein zuverlässiger Ätzer/Ascher, der hohe Präzision und Genauigkeit bei Ätz- und Ascheprozessen bietet und komplizierte und einheitliche Prozessergebnisse ermöglicht. Die hochtransparente Quarzkammer, der hohe Ionenstrom, das effiziente Temperaturregelsystem und die schnelle Abklingfähigkeit machen es zu einer idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterbauelementherstellung.