Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9154830 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K ist ein Ätzer/Ascher, der für fortschrittliche Lithographie und Mikroherstellung entwickelt wurde. Dieser Ätzer/Ascher ist mit einem leistungsstarken, präzisionsgesteuerten, atmosphärenreaktiven Abscheidungswerkzeug ausgestattet, das ein präzises und genaues Ätzen in einer Vakuumumgebung ermöglicht. TEL TELFORMULA ALD High-K kann sowohl Niederdruck- als auch Hochdruckumgebungen bedienen. Dies ermöglicht das Ätzen sowohl physikalischer als auch chemischer Systeme. Die Ätzung erfolgt mit einem Reaktivgas, um eine gleichbleibende Reaktionsgeschwindigkeit und gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Zum ALD High-K gehört auch ein patentiertes „Dynamic Control System“, das den Gasfluss, die Temperatur und den Druck sowie die Abscheidezeit automatisch anpasst, um einen fein gesteuerten Ätzprozess mit einer Vielzahl von Ätzparametern zu erzeugen. Dieser erweiterte Ätzer/Ascher ist vollständig umschlossen und bietet eine außergewöhnlich hohe Genauigkeit der Ätzrate. Die Temperatur und Zusammensetzung der Umgebung kann auch exakt so gestaltet werden, dass mit demselben Verfahren eine Vielzahl von Materialien geätzt werden kann. TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K ist in der Lage, sowohl Standard- als auch Dünnschichtmaterialien zu ätzen. Der Ätzprozess ist extrem effizient bei geringen Verbrauchskosten und geringem Stromverbrauch. Die Ätzung kann so konfiguriert werden, dass eine Vielzahl von Seitenverhältnissen mit minimaler Hinterschneidung und ohne Oxidation geätzt werden. TELFORMULA ALD High-K wurde bei der Herstellung von Halbleitern, ICs, Leiterplatten und MEMS eingesetzt. Dieser vielseitige Ätzer/Ascher wird auch im Rapid Prototyping, 3D-Druck, Nanotechnologie und anderen fortschrittlichen Fertigungsanwendungen verwendet. Die ALD High-K enthält mehrere erweiterte Sicherheitsfunktionen, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten, einschließlich Übertemperaturschutz, automatische Abschaltung, wenn der O2-Pegel zu niedrig ist, und Hochtemperaturisolierung. Der Ätzer/Ascher umfasst sowohl einstufiges als auch mehrstufiges Ätzen für lange und kurze Prozesse. Abschließend ist TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K ein hochmoderner Ätzer/Ascher für fortschrittliche Lithographie und Mikrofabrikation. Dieser fortschrittliche Ätzer/Ascher ist in der Lage, hochgenaue Ätzergebnisse zu erzielen, indem der Gasfluss, die Temperatur und der Druck in einer Vakuumumgebung eingestellt werden. Dieser Ätzer/Ascher wird auch in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter Halbleiter, ICs, Leiterplatten und MEMS.