Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K #9282599 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9282599
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
Vertical LPCVD Furnace, 12"
VCM-5D-012L Heater
Maximum operating temperature: 300°C
ART Control
N2 Load lock
Wafer type: Si SEMI STD-Notch
(50) Production wafers
Loading area light: White (LED)
RCU Duct length FNC to RCU: 20m
Chemical prefilter hydrocarb
Chemical prefilter location: FNC Top
Dry pumps missing
Wafer / Carrier handler:
Carrier type: FOUP / 25-Slots SEMI STD
ENTEGRIS A300 FOUP
Carrier stage capacity: 10
Info pad A,B: Pin
Info pad C,D: Pin
Fork material: Al2O3
Furnace facilities:
Furnace exhaust connection point: Top connection
Cooling water connection point: Bottom connection
Air intake point: Top
Gas distribution system:
IGS Type: IGS 1.5" W-Seal rail-mount
FUJIKIN IGS System
Tubing bends: <90°C
PALL IGS Final filter
IGS Regulator: CKD
HORIBA STEC IGS MFC Digital
HORIBA SEC-G111 IGS MFC For low flow N2 purge
IGS Press transducer: Nagano
HORIBA STEC LSC-F530 Liquid source vapor system
For ZAC HORIBA STEC TL-2014
Auto refill system TMA: AIR LEQUIDE / CANDI
Auto refill system ZAC: AIR LEQUIDE / CANDI
OP-500H-RE1 Ozone delivery system
Injector O-Ring material: DU353
Gas facilities:
Incoming gas connection point: Bottom connection
Gas VENT Connection point: Bottom connection
Exhaust VENT Connection point: Bottom connection
Gas unit exhaust connection point: Bottom connection
Exhaust:
Vacuum gauge pressure controller: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge press monitor 133 kpa: MKS Capacitance manometer (Hot)
Vacuum gauge pump monitor: MKS Capacitance manometer (Hot)
CKD VEC-VH8-X0110 Main valve
VYX-0279-CONT Controller
EDWARDS iXH-1820T Pump
EDWARDS TPU Abatement system
Type: Burning type
Exhaust box: Wide type (1200mm)
Exhaust O-Ring material: DU353
FNC Power box: 30m
FNC RCU: 30m
Power box RCU: 30m
Power box pump unit: 30m
Power box refill system: 30m
Host communications: Comply with GJG
Equipment host I/F Connection: Power box top HSMS (10Base-T/100Base-TX)
Ingenio
OHT Capability
Load port operation: Lower and upper
PIO I/F Location: FNC Top
PIO: TEL
HOKUYO DMS-HB1-Z PIO
Carrier ID Reader writer type: RF
CIDRW Lower L/P: Read
CIDRW Upper L/P: Read
CIDRW FIMS: Read / Write
CIDRW: HOKUYO DMS-HB1-Z Series
CIDRW Tag orientation: Vertical
Customized management signals: PT / Water
Interface:
Signal tower model: LCE Series
Signal tower colors: Red / Blue / Yellow / Green
Signal tower location: Front for (10) Stockers (Left)
Front operation panel
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel Installed
Indicator type: HOKUYO DMS-HB1-Z series
Operator switch: Operator access / White cover with orange light
Pressure display unit: MPa / Torr
Cabinet Exhaust pressure display: Pa
Power:
Power cable input entrance loc: Power box top
Power supply:
3 Phase connection type: Star connection
200/400 VAC, 60 Hz, 3 Phase
2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher für die fortschrittliche Herstellung elektronischer Geräte. Dieses Gerät wurde entwickelt, um ein gleichmäßiges Ätzen und Aschen von ultradünnen Folien mit einer Genauigkeit von bis zu +/- 15A zu ermöglichen und bietet eine hervorragende Fertigungsleistung. Mit einem reduzierten Platzbedarf und einer Höhe von nur 21 cm bietet TEL Telformula ALD High-K eine überlegene Benutzerfreundlichkeit im Vergleich zu anderen Aschermaschinen und ist somit ideal für Anwendungen, die ein hochpräzises Ätzen benötigen. TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K verfügt über eine erweiterte OGA (Chamber Interface Unit), die ihm hohe Ätz- und Aschefunktionen über einen weiten Prozessbereich bietet. Durch die Kombination von niedrigem Druck, hoher Temperatur und niedrigem thermischen Budget ist dieses Gerät in der Lage, komplexe Strukturen und Merkmale auf wiederholbare und kontrollierbare Weise zu schaffen, was überlegene Ergebnisse liefert. Darüber hinaus ist Telformula ALD High-K in der Lage, kompliziertere Muster mit Einspritzmasken zu produzieren und die Fähigkeit zu bieten, feinere Funktionen unter Verwendung von Linien- und Raumgeometrie zu erzeugen. TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K hat einen integrierten gepulsten Plasma-Modus mit einer einstellbaren Resonanzfrequenz, die die Ätzrate erhöht und gleichzeitig die Gesamtätzzeit verringert. Dies ermöglicht eine schnellere Umdrehungszeit für eine Vielzahl von dünnen Folien und Anwendungen. Darüber hinaus verfügt TEL Telformula ALD High-K über vollautomatische Roboter-Wafer-Lade- und Qualitätskontrollsysteme für eine erhöhte Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit. TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K ist langlebig und zuverlässig, wobei eine regelmäßige Wartung nur einmal jährlich für die anspruchsvollsten Anwendungen erforderlich ist. Dieses Gerät ist auch so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Materialien wie Metallen, Legierungen und Keramiken kompatibel ist, wodurch das Gerät für Hersteller mit unterschiedlichen Prozessanforderungen vielseitiger ist. Insgesamt ist Telformula ALD High-K ein zuverlässiger und präziser Ätzer/Ascher für eine Vielzahl moderner elektronischer Geräte mit überlegenen Prozesssteuerungsfunktionen. Es bietet eine Vielzahl von Ätz- und Aschemodi mit der Fähigkeit, die Resonanzfrequenz einzustellen, was eine verbesserte Prozesssteuerung und Umdrehungszeiten ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON Telformula ALD High-K ist langlebig und zuverlässig und bietet Kompatibilität mit einer Vielzahl von Materialien, bietet Herstellern mehr Vielseitigkeit für die Produktion.
Es liegen noch keine Bewertungen vor