Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9313281 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K ist eine fortschrittliche Ätz- und Aschereinrichtung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das System verfügt über eine hohe K, Mehrkammerätzung und Ascher, mit einer Vielzahl von Fähigkeiten, wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Atomschichtabscheidung (ALD), und elektrochemische Abscheidung (ECD). Das Gerät bietet beispiellose Präzision und Kontrolle für Anwendungen auf hohem Niveau wie die Herstellung von ultradünnen Schichten aus dielektrischen Materialien mit hoher K. TEL TELFORMULA ALD High-K bietet eine High-K Mehrkammerätz- und Aschermaschine mit einer Vielzahl von Möglichkeiten und Steuerungsmöglichkeiten. Der Ätzer/Ascher ist für die gleichzeitige Verarbeitung mehrerer Dünnschichtschichten mit präziser Kontrolle über die Dicke und Rauheit jeder Schicht ausgelegt. Das Werkzeug ist auch in der Lage, die Schichten mittels einer Lithographiemaske präzise in gewünschte Formen zu strukturieren. Zusätzlich ist die Anlage mit einer multidirektionalen Plasmaquelle ausgestattet, die eine größere Kontrolle über den Ätz-/Ascheprozess ermöglicht. Der High-K-Mehrkammerätzer und Ascher bietet eine stabile und gleichmäßige Abscheidung bei gleichzeitig hochwertigem selektiven Ätz- und Ascheprozess. Es verfügt außerdem über eine außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit und bietet Benutzern mehrere Etch- und Aschezyklen auf mehreren Ebenen. Darüber hinaus kann das Ätz-/Ascheverfahren von TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K an kundenspezifische Bedürfnisse angepasst werden. Das Modell ist auch mit einer Vielzahl von Prozesswerkzeugen ausgestattet, einschließlich In-situ-Ionen-Monitor, In-situ-spektrochemisches Analysret, Ätzresist-Anwendung und Atompartikelinspektion. Der In-situ-Ionenmonitor ist ein fortschrittliches Analysewerkzeug, mit dem die Konzentration von Ionen in den Kammersystemen genau gemessen werden kann und der Anwender eine genauere Kontrolle über den Prozess erlangen kann. Das in situ spektrochemische Analysret hingegen kann zur Überwachung der Eigenschaften der Dünnschichtschichten verwendet werden. Die Ätzresistapplikation kann verwendet werden, um bestimmte Bereiche vor einem Ätz- oder Ascheprozess genau zu maskieren, während das Atompartikelinspektionswerkzeug verwendet wird, um die kleinen Partikel zu messen, die nach dem Prozess in der Kammer verbleiben können. TELFORMULA ALD High-K ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die Anwendern unübertroffene Präzision, Kontrolle und Funktionen bietet. Es bietet eine Vielzahl von Fähigkeiten, wie chemische Dampfabscheidung, atomare Schichtabscheidung und elektrochemische Abscheidung, und ist mit einer multidirektionalen Plasmaquelle ausgestattet, um eine bessere Kontrolle über den Ätz-/Ascheprozess zu ermöglichen. Das System bietet auch mehrere Ebenen von Ätz-/Aschezyklen sowie eine Vielzahl von Prozesswerkzeugen. Die High-K-Mehrkammer-Ätz- und Aschermaschine des Geräts bietet Anwendern höchste Präzision und Kontrolle und ist somit die perfekte Wahl für anspruchsvolle Anwendungen wie die Herstellung ultradünner Schichten aus dielektrischen Materialien mit hoher K-Leistung.