Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide #9196076 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9196076
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Vertical LPCVD furnace, 12"
Model: TEL INDY-A-L
Process: HTOX
System power rating: 480 V, 3 Phase / 120 V, 1 Phase
Loading configuration: 4 (Dual boat)
Furnace module
I/O Module
Exhaust box
Gas box
Power box
Currently installed
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Oxid ist ein Ätzer/Ascher, der zum Ätzen oder Aschen von Metalloxidschichten von den Oberflächen von Materialien wie Halbleitersubstraten und Wafern verwendet wird. Sie besteht aus zwei Kammern: der Hauptverarbeitungskammer und der Reaktionskammer. Die Hauptverarbeitungskammer ist mit einer Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaquelle ausgestattet. Diese Quelle ist für die Erzeugung von ECR-gesteuertem Plasma verantwortlich, das dann zur Durchführung der Ätz- und Ascheprozesse verwendet wird. Die Reaktionskammer weist eine modifizierte Version der induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) in Verbindung mit der ECR-Quelle auf. Diese Dual-Source-Konfiguration ermöglicht einen hochpräzisen und effizienten Trockenätzprozess. Die ECR- und ICP-Quellen erzeugen ein HF-Plasma aus Ionen und Radikalen, gebildet aus einem Gemisch aus Sauerstoff, Argon und anderen Gasen, die in die Verarbeitungskammer eingeleitet werden. Dieses Plasma dient dann zum Ätzen oder Aschen der Metalloxidschichten von der Oberfläche von Substraten wie Halbleiterscheiben. Nach Beseitigung der Oxidschicht wird die Qualität der Schicht und die Qualität des Endproduktes verbessert. Die Tiefe und die Geschwindigkeit des Ätzens/Aschens ist einstellbar und kann durch Änderung von Druck, Leistung und Gasgemisch innerhalb der Verarbeitungskammer feinjustiert werden. TEL TELINDY Oxide ist ein effizienter und zuverlässiger Ätzer/Ascher, der eine Vielzahl von Materialien auf Nano- und Mikroebene verarbeiten kann. Es eignet sich für Metalle, Keramik und Halbleitermaterialien gleichermaßen. Es bietet eine geringe Defektdichte in den Substraten, einen hohen Durchsatz und eine überlegene Oberflächenqualität. Es kann verwendet werden, um Wafer mit Dicken zwischen 50 und 500 µm zu dünnen oder zu manipulieren, und ist besonders nützlich für die Herstellung von 3D-gestapelten Speichergeräten. TOKYO ELECTRON TELINDY Oxid hat eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen für den Bediener und Prozessschutz. Dazu gehören ein Durchbruchpunktschutz, der den Betriebszustand überwacht, eine Tastatur und Alarmanlage, ein Überdruckschutz und eine Farbwärmebildkamera zur Temperaturüberwachung der Bearbeitungskammer. Kurz gesagt, TELINDY Oxide ist ein effizienter, zuverlässiger und vielseitiger Ätzer/Ascher, der in der Lage ist, eine Vielzahl von Materialien auf Nano- und Mikroebene zu handhaben. Es bietet Sicherheit, Präzision und Effizienz und ist mit zahlreichen Prozessrezepten und Materialien kompatibel.
Es liegen noch keine Bewertungen vor