Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide #9233211 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide
ID: 9233211
Wafergröße: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide ist ein Ätzer/Ascher, der für eine Vielzahl von Ätzprozessen in verschiedenen Branchen verwendet wird. Es ist eine Kombination aus einem Gasphasenätzer und einem elektrochemischen Ascher, was es sehr vielseitig macht. TEL TELINDY Oxid ist in der Lage, eine breite Palette von Modulation und Prozesssteuerung. Es ist hocheffizient und kann Ätzprozesse wie selektive Abscheidung von Photolack und Laserablation von Epi-Schichten in der Mikroelektronikindustrie handhaben. Das Gerät kann einen 200 nm-Ätzspalt erreichen und seine Ätzraten sind bis zu 80 nm/min hoch. TOKYO ELECTRON TELINDY Oxid hat mehrere einzigartige Eigenschaften, die es ideal für den Einsatz in der Mikroelektronik machen. Es verfügt über ein thermisches Oxidationssystem mit niedriger Temperatur, das eine genaue Temperaturregelung während des Ätzvorgangs ermöglicht. Diese niedrige Temperaturfähigkeit reduziert das Risiko einer Überhitzung und ermöglicht so eine verbesserte Prozessstabilität. Die Vorrichtung weist außerdem eine gleichmäßige Ätztiefensteuerung auf. Dies führt zu einer höheren Ätzgleichmäßigkeit, die die Variation der Formelementgrößen minimiert. Es verfügt auch über aktive HF-Reinigungs- und Sputterfunktionen, die für die Reduzierung der Partikelerzeugung von entscheidender Bedeutung sind. Die Vorrichtung ist auch in der Lage, Strukturen mit hohem Seitenverhältnis präzise zu ätzen. Dies ist wichtig für eine Vielzahl von Ätzprozessen, die Tiefätzen erfordern, wie zum Beispiel bei der Herstellung von Mikrovias. TELINDY Oxide ist ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug, das in einer Vielzahl von Ätzanwendungen von Unterhaltungselektronik bis hin zu biomedizinischen Geräten eingesetzt werden kann. Seine Kombination aus Gasphasenätzen und elektrochemischer Asche macht es ideal für das Ätzen komplizierter Strukturen mit hoher Genauigkeit. Darüber hinaus verringern seine aktiven RF-Reinigungs- und Sputterfunktionen das Risiko einer Partikelerzeugung erheblich.
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