Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide #9311153 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide
ID: 9311153
Wafergröße: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Oxid ist ein fortschrittliches Gerät zum Ätzen und Aschen von Halbleiterscheiben. Es verwendet naßchemisches Ätzen, um eine Oxidschicht bestimmter Dicke über einem darunter liegenden Substrat abzuscheiden. Diese Oxidschicht kann dann in einer Vielzahl von Anwendungen wie Isolierung in integrierten Schaltungen, dielektrische Schichten in Mikrowellen- und Antennenanwendungen, Oberflächenpassivierung in elektronischen Geräten oder Schutz vor ultraviolettem Licht in optoelektronischen Geräten eingesetzt werden. TEL TELINDY Oxide ist mit einer leistungsstarken, volumenarmen, eingepumpten chemischen Lagereinrichtung ausgestattet, die es ermöglicht, effizient, präzise und effektiv zu arbeiten. Das Gerät befindet sich in einem geschlossenen System und verhindert, dass gefährliche Chemikalien in die Umwelt entweichen. Die automatisierte Chemikalienliefereinheit bietet eine präzise Kontrolle des Oxidabscheidungsprozesses und ermöglicht präzise Dicken. Das Gerät nutzt eine computergesteuerte Badtemperatur und einen Gasdruck, um eine optimale Ätzleistung zu erzielen. Die Maschine beinhaltet auch eine Luftstromregelung für mehr Genauigkeit und Gleichmäßigkeit. Die Kombination dieser Merkmale ermöglicht es TOKYO ELECTRON TELINDY Oxid, die konsistente Oxidabscheidung während aufeinanderfolgender Chargen und über verschiedene Wafergrößen aufrechtzuerhalten. Die Vorrichtung ist mit einem automatischen Temperaturregelwerkzeug zur Aufrechterhaltung einer konstanten Temperatur bei Ätzvorgängen ausgebildet. Dadurch erreicht das Gerät den größten Temperaturbereich, ohne die Temperatureinstellungen manuell anpassen zu müssen. Darüber hinaus kann das Gerät mit verschiedenen Arten von Masken und Wafern arbeiten, wodurch der Bedarf an neuen Masken und Wafern während der Produktionsprozesse reduziert wird. Das Gerät hat auch eine Auto-Capping-Funktion, die den Wafer vor physikalischen Schäden oder chemischen Verunreinigungen während des Ätzvorgangs schützt. Die Anlage umfasst auch Differentialpumpen unter Verwendung eines Vakuums am Boden des Prozessgefäßes. Dies ist nützlich, um die Ansammlung von Partikeln im Inneren des Gefäßes zu verhindern. Schließlich ist das Modell mit einer Diagnosefunktion ausgestattet, die Fehler am Gerät erkennen und den Bediener schnell warnen kann, so dass Korrekturmaßnahmen ergriffen werden können. Zusammenfassend ist TELINDY Oxide ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für Halbleiterscheiben. Es verwendet naßchemisches Ätzen, um eine Oxidschicht mit Präzision abzuscheiden, die Gleichmäßigkeit über verschiedene Wafergrößen bereitstellt. Das Gerät ist mit automatisierten chemischen Zufuhr- und Temperaturregelsystemen sowie anderen Funktionen wie Autokappen und Differentialpumpen ausgestattet. Die Diagnosefunktion hilft, Fehler oder Unregelmäßigkeiten mit dem Gerät zu erkennen, wodurch ein reibungsloser Betrieb und zuverlässige Ergebnisse gewährleistet sind.
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