Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide #9373212 zu verkaufen
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ID: 9373212
Wafergröße: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12"
Hard Disk Drive (HDD) not included.
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide ist ein Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um komplexe Muster auf der Oberfläche von Halbleitern und anderen Materialien zu erzeugen. TEL TELINDY Oxide ist komplett automatisiert, mit integrierter Sichtausrüstung und Wafer-Handling. Der automatisierte Prozess des Oxide ermöglicht es Anwendern, schnellere Ergebnisse mit verbesserter Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erzielen. Für einzelne Prozesse verfügt das Oxide über eine digitale Videokamera, die Echtzeit-vergrößerte Bilder des konstruierten Wafers aufnimmt und Rückmeldung an das System liefert. Der Wafer-Handler fungiert als „Hände“, die die notwendigen Mikroprozesse betreiben, während die Bildverarbeitungseinheit Licht und Chemikalien zu einem detaillierten und genauen Bild des gebildeten Wafers kombiniert. Mit einer verriegelten Echtzeitmaschine kann das Ozon Spurweite, Höhe und Tiefe mit ausgezeichneter Präzision steuern. Das Ozon bietet auch eine Reihe von Prozessfähigkeiten, einschließlich Ätzen und Aschen. Der Ätzprozess bildet mit einer chemischen Reaktion ein Muster auf den Wafer, während der Aschvorgang jegliche Trümmer aus dem Muster entfernt. Beide Prozesse werden mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit durchgeführt, während der gestufte Zyklus die Verwaltung erleichtert. Das Ozon bietet auch eine pat-on-the-fly (POF) -Funktion, mit der ein benutzerdefiniertes Muster erstellt werden kann, ohne die Ätzmaske manuell zu ändern. Dies hilft, die Produktionszeit zu verkürzen und Umrüstungen zwischen Prozessen zu vermeiden. Darüber hinaus bietet das Ozone eine selektive Anzeigefunktion, mit der Ingenieure den gesamten Ätzprozess transparent aus verschiedenen Blickwinkeln betrachten können, wodurch Probleme frühzeitig erkannt und behoben werden können. Das Ozon kommt mit einer Vielzahl von mehreren Sprachen für die totale Bedienung Steuerung. Das intuitive Bedienfeld und die eingebetteten Sicherheitssysteme sorgen für eine sichere Bedienung. Die präzisen und hochgeschwindigen Operationen machen das Ozon zu einer kostengünstigen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Mit seinem zuverlässigen Betrieb, der gründlichen Reinigung und speziellen Behandlungen wird das Ozon bei der Herstellung von Halbleitern sowie anderen Materialien enorm helfen.
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