Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Telius SCCM #293830627 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Telius SCCM
ID: 293830627
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Oxide etcher, 12" 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telius SCCM ist ein Ätzer/Ascher, der den hohen Anforderungen der Halbleiterherstellung gerecht wird. Es verfügt über eine Vielzahl von erweiterten Funktionen und Spezifikationen, so dass es eines der zuverlässigsten Ätzwerkzeuge für Forschung und Produktion Anwendungen. TEL Telius SCCM Ätzer/Ascher ist für chemisch-mechanisches Polieren (CMP) und chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) konzipiert. Dieser Ätzer/Ascher besteht aus drei Grundkomponenten: der Kammer, die die Prozessschale, die Vakuumausrüstung und das Steuerungssystem umfasst; das Prozessdeck, das den HF-Generator, die Verteilungsanordnung und den Prozesskopf enthält; und die Prozeßschale, die den Waferhalter, den Verarbeitungskopf und den Substrataufzug enthält. Die Kammer von TOKYO ELECTRON Telius SCCM ist auch mit einer Reihe von erweiterten Funktionen ausgestattet, einschließlich Präzisionstemperaturregelung, Vakuumerfassung und Fernbedienung. Der variable Temperaturbereich ermöglicht eine wiederholbare und zuverlässige Prozessoptimierung. Die Kammer ist auch mit einem hochauflösenden Sensor ausgestattet, um den Prozess in Echtzeit zu überwachen und erforderliche Anpassungen vorzunehmen. Das Prozessdeck von Telius SCCM wird von einem dreiphasigen Hochspannungs-HF-Generator angetrieben und mit einer Verteilereinheit ausgestattet, um einen einheitlichen Prozess über den gesamten Wafer zu ermöglichen. Der Prozesskopf ist eine Mehrstationseinheit, die bis zu 6 Wafer gleichzeitig verarbeiten kann. Es verfügt über eine präzise Positioniereinheit und eine präzise Luftblasmaschine, um konsistente und gleichmäßige Ergebnisse zu gewährleisten. Der Substrataufzug ist so konzipiert, dass Wafer geladen, übertragen und entladen werden können. Die Prozesskammer in diesem Ätzer/Ascher ist außerdem mit einem automatisierten Wafer-Transferwerkzeug ausgestattet, das das Risiko von Verschmutzungen verringern und den Prozessdurchsatz verbessern soll. Neben der Möglichkeit, den Wafer zwischen verschiedenen Prozessen zu bewegen, kann das Transfergut zum Be- und Entladen von Materialien aus der Kammer verwendet werden. Die Kammer ist auch mit einer selbstreinigenden Funktion ausgestattet, die sicherstellt, dass die Kammer frei von Verunreinigungen ist. TEL/TOKYO ELECTRON Telius SCCM Ätzer/Ascher bietet auch eine Reihe fortschrittlicher Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen. Es enthält eine eingebettete Ziel-Bild-Analyse-Funktion, die verwendet werden kann, um anormale Prozessbedingungen zu erkennen. Ein Sequenzeditor ermöglicht es Benutzern, spezielle Parameter und Prozesssequenzen zu definieren, was eine größere Kontrolle über Ätz- und Planarisierungsprozesse ermöglicht. Insgesamt ist TEL Telius SCCM Ätzer/Ascher eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterproduktions- und Forschungsanwendungen. Es bietet eine Vielzahl von Funktionen und Spezifikationen, die den anspruchsvollsten Ätzanforderungen entsprechen und konsistente Ergebnisse und zuverlässige Leistung liefern.
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