Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELIUS TSP-30444VVV #9219374 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS TSP-30444VVV Ätzer/Ascher ist ein fortschrittliches, leistungsstarkes Waferbearbeitungswerkzeug, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es wird hauptsächlich zum Ätzen, Aschen oder Verdünnen von Prozessen verwendet. Dieser Ätzer eignet sich gut für Anwendungen, die ein exakt kontrolliertes Ätzen und Aschen mit hohem Durchsatz erfordern. Das TSP-30444VVV ist ein schneller, präziser und kostengünstiger Ätzer und Ascher, der eine breite Palette von Wafergrößen (bis zu 150 mm) verarbeiten kann. Der Ätzer verfügt über eine leistungsstarke Puls-DC-Ätz- und ECR-Plasmaveraschungstechnologie, die ein reibungsloses Ätzen und eine hohe Gleichmäßigkeit ermöglicht. Das Werkzeug kommt auch mit Encoder-gesteuerten Scannen, die präzise und wiederholbare Ergebnisse gewährleistet. Das TSP-30444VVV umfasst eine leistungsstarke Gaszufuhrsteuerung, die eine genaue Endpunktdetektion auch bei Anwesenheit von Prozessgasen mit großen Reaktivitätsunterschieden ermöglicht. Dieses System bietet auch die Möglichkeit, den Ätz- oder Ascheprozess genauer abzustimmen und auf Wafern unterschiedlicher Größe und Materialien einheitliche Ergebnisse zu erzielen. Das Gerät verfügt zudem über eine integrierte Vakuummaschine, die sicherstellt, dass Partikel während des Ätz- oder Aschvorgangs nicht auf den Wafern haften bleiben. Dieses Werkzeug trägt auch dazu bei, das Risiko von Prozessverunreinigungen zu reduzieren und die hohe Qualität der Waferoberflächen zu erhalten. Der Ätzer beinhaltet ein automatisiertes Wafer-Load-Asset, das bis zu 8 einzelne Wafer in einer einzigen Charge aufnehmen kann, wodurch der Durchsatz erhöht und die Ausführung mehrerer Prozesse in kurzer Zeit ermöglicht wird. Der Ätzer verfügt auch über ein programmierbares Rezeptspeichermodell, das eine einfache Programmierung eines oder mehrerer kundenspezifischer Prozessrezepte ermöglicht. Das fortschrittliche TSP-30444VVV wurde entwickelt, um zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse mit einer Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen zu erzielen. Seine ausgeklügelte Gaseinspeisesteuerung und seine effizienten Wafer-Ladefähigkeiten machen es zu einem hocheffizienten Werkzeug für Halbleiterhersteller.