Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias ALD #9294449 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ALD (Atomic Layer Deposition) ist ein Ätzer und Ascher, der verwendet wird, um dünne Filme mit genauer Dicke und Abdeckung über eine Oberfläche zu erzeugen. Es wurde entwickelt, um dünne Filme mit einem Dickenbereich von nur einer Atomschicht bis zu mehreren hundert Nanometern abzuscheiden, wodurch eine präzise Dünnschichtabscheidung auf molekularer Ebene möglich ist. TEL Trias kann eine Vielzahl von verschiedenen Ablagerungsaufgaben bewältigen. Es bietet eine hohe Präzision und Genauigkeit durch sein Niveau der Kontrollen, die Temperatur, Geschwindigkeit, Richtung und Zeit umfasst. TEL Trias ALD ist mit einer Reihe von Controllern ausgestattet, die einen präzisen und konsistenten Betrieb ermöglichen. Die Verladung ermöglicht das Be- und Entladen von Wafern ohne das Einbringen von Verunreinigungen in das Gerät. Es verfügt außerdem über einen mehrachsigen Bewegungsregler, der eine wiederholbare Bewegung und präzise Positionierung der Wafer gewährleistet. Die Trias beinhaltet auch ein leistungsfähiges Abgas- und Waschsystem, das hilft, eine höhere Reinheit im Abscheidungsprozess zu erreichen. TOKYO ELECTRON Trias ist mit einem fortschrittlichen ALD-Gaspanel zur präzisen Steuerung von Gasfluss, Temperatur und Druck ausgestattet. Dieses Gerät enthält auch einen Temperaturregler, der die Temperatur des Wafers während der Abscheidung überwacht und automatisch einstellt, um Gleichmäßigkeit und Qualität zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Trias ALD ist auch mit Sicherheitsfunktionen wie einem geschlossenen Schrank und Schlüsselschloss, die gegen unbefugten Zugriff gewährleistet ausgelegt. Es verfügt auch über einen Notabschalter sowie eine automatische Abschaltung bei Maschinenausfall. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON Trias ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der mit einer Reihe von Merkmalen und Funktionen ausgestattet ist, um eine präzise Dünnschichtabscheidung auf mikroskopischer Ebene zu gewährleisten. Es ist für präzise und wiederholbare Abscheideprozesse konzipiert, die ein hohes Maß an Reinheit und Gleichmäßigkeit bieten. Dieses Werkzeug ist ideal für die Abscheidung fortschrittlicher Dünnschichtmaterialien in der Halbleiter-, Kunststoffverpackungs- und Medizinindustrie.