Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #293627026 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN
ID: 293627026
Metal CVD system.
TEL Trias TI/TIN ist eine Ätz-/Ascheprozessausrüstung, die zum hochpräzisen Ätzen oder Aschen von Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Es ist für die Dünnschicht-Halbleiterherstellung konzipiert und eignet sich ideal zum Ätzen oder Aschen von ultradünnen Schichten oder Schichtsubstraten. Das Gerät besteht aus einer Prozesskammer und einem hochpräzisen Substratträger und bietet eine einzigartige Kombination aus hohem Durchsatz und hoher Oberflächengenauigkeit und Stabilität. Die Prozesskammer ist ein Zweikammersystem mit einem Prozeß und einer Abgaskammer, getrennt durch eine schwimmende Membran. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung und Messung von Drücken, Temperaturen und Strömungsgeschwindigkeiten innerhalb der Kammer. Dieses System eignet sich besonders für hochpräzises Ätzen, da es die Bildung von Verschleißspuren und Beschädigungen des Substrats minimiert. Die Temperatur der Kammer ist dynamisch, so dass Temperaturbereiche von 200 ° C bis 400 ° C, so dass eine Vielzahl von Anwendungen, wie chemische Dampfabscheidung (CVD) Prozesse. Der Druck der Kammer ist ebenfalls einstellbar und kann auf einen Bereich von 1 bis 10 Torr eingestellt werden. Der Trias TI/TIN bietet zudem einen hochpräzisen Substratträger, der Substrate bis 4 Zoll Durchmesser tragen kann. Der Substratträger suspendiert sich unter Verwendung von Luftlagern und bietet während des Ätz-/Aschevorgangs einen ebenen Substratträger. Der Substratträger ist auch in drei Achsen beweglich, was eine präzise Strukturierung und Ausrichtung des Substrats während des Prozesses ermöglicht. TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN ist ein fortschrittliches Werkzeug zum Ätzen/Aschen von Halbleitersubstraten und bietet eine einzigartige Kombination aus hoher Präzision und hohem Durchsatz. Das Doppelkammerdesign, die dynamischen Temperatur- und Druckeinstellungen sowie der hochpräzise Substratträger bieten Anwendern vielfältige Möglichkeiten zum Ätzen und Veraschen verschiedener Substrate für unterschiedliche Anwendungen.
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