Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #293644140 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN
ID: 293644140
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) System.
TEL Trias TI/TIN ist ein Ätzgerät (auch als Ascher bezeichnet) zur Herstellung von integrierten Schaltkreissubstraten (IC). Es verwendet eine elektrisch betriebene Metallquelle, um metallbasierte Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Der Ascher besteht aus verschiedenen Funktionskomponenten, darunter einem Substrat, einer Reaktionskammer, einer Temperatursteuereinheit, einer Ätzelektrode und einem Ätzgas. Das Substrat von TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN ist ein Metall, Halbleiter oder Isolatormaterial, das die Unterstützung für die Metall-Ätzelektroabscheidung bietet. Es wird in die Reaktionskammer des Systems gelegt, wo es dem Ätzgas ausgesetzt wird. Die Reaktionskammer von TEL/TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN ist eine abgedichtete Kammer, die den Kontakt des Ätzgases mit dem Substrat ermöglicht. Es beherbergt auch die Temperatursteuereinheit, die die Temperatur des Ätzgases überwacht. Die Ätzelektrode ist die Metallquelle des Aschers. Es enthält eine Quelle einer Metallquelle, wie TiN oder W, und ist in einer separaten Kammer von der Reaktionskammer untergebracht. Die Metallquelle wird erhitzt und die Ionen werden mit dem Substrat in Kontakt gebracht. Das Ätzgas wird verwendet, um den Metallätzprozess zu ermöglichen. Es besteht typischerweise aus einer Kombination aus einem Gas auf Fluorbasis, wie Chlor und einem Reaktantgas, wie Wasserstoff. Das Ätzgas hilft, die Metallquelle auf das Substrat zu ätzen und gleichzeitig Schäden an anderen Komponenten der Einheit zu verhindern. Schließlich dient die Temperaturregeleinheit der Maschine zur Regelung der Temperatur der Reaktionskammer. Dadurch wird sichergestellt, dass die Temperatur zur Optimierung des Ätzprozesses auf einem akzeptablen Niveau gehalten wird. Insgesamt ist das TI/TIN-Ätzwerkzeug TEL Trias hocheffizient und vielseitig einsetzbar. Es ist für den Einsatz bei der Herstellung einer breiten Palette von IC-Substraten konzipiert. Es ist wartungsarm und kann eine große Menge an Substratmaterialien auf einmal handhaben. Darüber hinaus eignet sich das Asset sowohl für den manuellen als auch für den automatischen Betrieb und ist damit eine ideale Lösung für komplexe IC-Muster und -Funktionen.
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