Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias Ti/TiN #293802348 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Trias Ti/TiN
ID: 293802348
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) System.
TEL Trias TI/TIN ist ein Ätzer/Ascher für den Einsatz in Halbleiteranwendungen. Es ist ein multifunktionales Werkzeug, das für Ätz-, Glüh- und Vorreinigungsprozesse verwendet werden kann. Das Trias TI/TIN nutzt einen Elektronenstrahl zur Erzeugung eines Teilvakuums und sorgt für eine hohe Kontrolle des Ätzprozesses. Seine Präzision und Wiederholbarkeit liefern gleichbleibende, qualitativ hochwertige Ätzergebnisse. Das Werkzeug verfügt über eine geringe Partikeldichte, um das Risiko von Partikeln auf dem Substrat zu minimieren. Der Trias TI/TIN bietet eine Vielzahl von Ätzfunktionen, darunter RIE (Reactive Ion Etching), physikalische E-Beam-Dampfabscheidung (E-PVD) und tiefenreaktives Ionenätzen (DRIE). Seine leistungsstarken Ätzfähigkeiten ermöglichen es ihm, schnell und präzise Material von empfindlichen Substraten zu entfernen. Der Prozess ermöglicht eine maximale Kontrolle über Ätzparameter wie Temperatur, Rezept und Ausrichtung. Zusätzlich kann mit dem Trias TI/TIN Metall und andere Materialien auf Substraten abgeschieden werden. Neben dem Ätzen kann die Trias TI/TIN auch zum Glühen verwendet werden. Es kann verwendet werden, um die physikalischen und chemischen Eigenschaften des Substrats zu modifizieren sowie die Oberfläche zu glätten und zu verdichten. Dieser Prozess hilft auch, Späneausfälle durch übermäßige Materialbelastung zu reduzieren. Zusätzlich kann die Trias TI/TIN zur Vorreinigung von Substraten verwendet werden. Dieses Verfahren beseitigt Verunreinigungen auf der Oberfläche des Substrats, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN ein hochentwickelter Ätzer/Ascher, ideal für den Einsatz in Halbleiteranwendungen. Seine hohe Präzision und Wiederholbarkeit ermöglichen es ihm, genaue Ätzergebnisse zu erzielen, während seine multifunktionalen Funktionen speziell für Ätz-, Glüh- und Vorreinigung einen Mehrwert bieten. Darüber hinaus trägt seine geringe Partikeldichte dazu bei, das Risiko einer Kontamination zu reduzieren.
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