Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293592929 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 293592929
Wafergröße: 12"
CVD Systems, 12" Process: Ti/TiN.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein Ätzer/Ascher, der speziell für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es ist ein Einzel-Wafer-Werkzeug mit 200mm Waferkapazität. Es nimmt die seitliche horizontale Verarbeitungstechnologie an, um die Gleichmäßigkeit der geätzten Oberfläche zu optimieren. Der Ätzer enthält ein rotierendes Substrat mit einstellbarer Größe und einem flüssigkeitsunterstützenden Ätzmerkmal. Diese Maßnahme ermöglicht eine gleichmäßige Ätzgeschwindigkeit und eine große Fläche gleichmäßig verteilter Ätzung. Das Substrat wird erwärmt und unter Druck gesetzt, um die Ätzgeschwindigkeit bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung der Sauberkeit zu erhöhen. Darüber hinaus verfügt der Ätzer über eine hohe Präzision, die sicherstellt, dass Form und Größe des geätzten Datenblattes genau reproduziert werden können. Der Ätzer verfügt über eine Einkammer-Kammer zur Aufnahme von bis zu 200mm Wafern. Auf diese Weise können verschiedenste Substrate verarbeitet werden, darunter Polysilizium und Siliziumoxynitrid. Der Ätzer ist auch mit Reaktiv-Ionen-Ätzen (RIE) zum Tiefätzen ausgestattet. Die Dual-Mode-Ionenquelle ermöglicht die Verwendung einer Vielzahl von Ätzmaterialien, darunter Fluoride, Hydrofluoride, Borane, Halogenide und Nitride. Der Ätzer wurde entwickelt, um Kontaminationen und Sauberkeitsprobleme zu minimieren. Es verwendet ein umgekehrtes Reinigungssystem, das den Ätzprozess umkehrt und eine saubere Nachätzoberfläche bereitstellt. Darüber hinaus verfügt das System über eine Tunnelreinkammer, die mit Wasserdampf und einem Inertgas beladen werden kann, um eine hohe Sauberkeit zu gewährleisten. Der Ätzer verfügt über eine einfach zu bedienende Softwareschnittstelle, die auf eine Vielzahl von Ätzmustern zugeschnitten werden kann. Der Benutzer kann die Zeit anpassen, um konstante Ätzgeschwindigkeiten beizubehalten, oder die Geschwindigkeit, um zusätzliche Ätzungen an kritischen Stellen bereitzustellen. Das System enthält auch einen Scan-Zeitplan, um sicherzustellen, dass der Wafer den angegebenen Verarbeitungsparametern ausgesetzt ist. Insgesamt ist TEL Trias Ätzer/Ascher perfekt für Aufgaben in einer Vielzahl von Substraten mit ausgezeichneter Kontrolle über Ätzgeschwindigkeit und Gleichmäßigkeit der Oberfläche. Es ist ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug, um schnell genaue Ergebnisse zu erzielen, was eine hohe Produktivität und Wirtschaftlichkeit gewährleistet.
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