Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293605722 zu verkaufen

ID: 293605722
Weinlese: 2007
Systems 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschemaschine, die zur Herstellung und Bearbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente und anderer komplexer Bauelemente verwendet wird. TEL Trias wurde als multifunktionale Maschine mit Nass- und Trockenätzfunktionen konzipiert, die es ermöglicht, geätzte/ashte Prozesse sowohl in einer kontrollierten Umgebung als auch mit einer breiten Palette von Materialien durchzuführen. TOKYO ELECTRON Trias verfügt über eine präzise digitale Steuereinrichtung, die eine hohe Wiederholbarkeit und Genauigkeit im Ätz-/Ascheprozess bietet. Trias verfügt über zwei Ätz-/Aschekammern, von denen jede eine Vielzahl von Schröpf-/Ätzprozessen unterstützt. Die erste Kammer, die Naßätzkammer, ist mit einem Vakuum und einem auf Flüssigkeit basierenden Ätzmittel ausgestattet. Die Naßätzkammer eignet sich zur Verarbeitung von Wafern beider Materialien, wie Amorphes Silizium und Poly-Si Ge, sowie zur überlegenen Ätzung/Asche von Aluminium- und Kupferoberflächen. Die zweite Kammer, die Trockenätzkammer, unterstützt einen trockenen, vakuumfreien Ätz-/Aschevorgang. Diese Kammer eignet sich für Verfahren wie Polyimidverdünnung, fortgeschrittene Strukturierung und Trockenfilmätzen. TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist mit einer breiten Palette von Komponenten, wie einem Sauerstoffzuflusssystem, einer Selbstdiagnoseeinheit und einer HF-Stromversorgung, ausgelegt, um eine optimale Ätz-/Ascheleistung zu gewährleisten. TEL Trias verfügt zudem über eine automatisierte Wafer-Handhabungsmaschine, die es ermöglicht, verschiedenste zum Ätzen/Aschen geeignete Wafergrößen zu verwenden, darunter Substrate und Schichten mit einer Dicke von bis zu 1 mm. Die vollautomatisierte Prozesssteuerung ist in der Lage, Ätz-/Ascheparameter während des Prozesses zu verfolgen und zu steuern. Abgesehen von einer effektiven Ätz-/Aschemaschine ist TOKYO ELECTRON Trias auch mächtig, wenn es um die Reinigung und Trocknung der Wafer geht. Der Reinigungsprozess umfasst die Entgasung stark markierter und kontaminierter Oberflächen, die automatisierte Stickstoffblasenerzeugung und die Flüssigkeitsbehandlung. Trias hat auch ein multifunktionales Trocknungsmerkmal, das in der Lage ist, sowohl feine Partikel als auch großformatige Partikel mit hoher Effizienz und Geschwindigkeit zu trocknen. TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein hervorragendes Beispiel für eine Maschine mit der Fähigkeit, fortschrittliche Halbleiterbauelemente und andere komplexe Bauelemente mit nassen und trockenen Ätz-/Ascheprozessen bei hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit herzustellen. TEL Trias' breite Palette von Prozessfähigkeiten, einfach zu bedienende automatisierte Steuerungen und hohe Prozesswiederholbarkeit machen es zu einem idealen Ätzer/Ascher für Industrie- und Forschungs-/Entwicklungsanwendungen.
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