Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293622393 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine hochmoderne Ätz-/Aschemaschine, die für eine Vielzahl von Halbleiterverarbeitungsanwendungen verwendet wird. Es nutzt die induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Technologie, um leistungsfähige, präzise Ätz- und Ascheoperationen für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bereitzustellen. Mit einer großen, temperaturgesteuerten Prozesskammer, gekoppelt mit einer temperaturstabilen Plasmaquelle, ist TEL Trias zu einer Vielzahl von Prozessen in der Lage, einschließlich Photolackätzen, Oxidation und Aschen. Die fortschrittliche Ätztechnologie von TOKYO ELECTRON Trias ermöglicht eine ausgezeichnete Selektivität und Gleichmäßigkeit der geätzten Eigenschaften sowie eine genaue und reproduzierbare Verarbeitung ultradünner Filme. Der Wafer-Prozessbereich von Trias ist auf optimale Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit ausgelegt. Dies geschieht durch die Verwendung von acht zylindrischen Quarzplatten, die durch Umwälzwasser gekühlt werden. Jede Platte ist durch 8mm getrennt und kann für einstellbare Temperatur Gleichmäßigkeit mit 360 ° Wiederholbarkeit eingestellt werden. Dies gewährleistet genaue Ätzergebnisse und verhindert fehlerhafte Platzierung von Wafern während der Bearbeitung. Das Wafer-Transfer-System ermöglicht auch eine schnelle und genaue Platzierung von Wafern auf der Heizungsebene mit Inertgas, um Verschmutzungen zu verhindern. TEL/TOKYO ELECTRON Trias verwendet eine separate, geschlossene CDA-Kammer, um die notwendigen Chemikalien und Gase zum Ätzen und Aschen bereitzustellen. Diese Kammer bietet eine stabile Arbeitsumgebung, die eine effektive Abgabe von Reagenzien sowie Gasmischung und -spülung für eine verbesserte Prozessreproduzierbarkeit ermöglicht. Das Gerät umfasst auch eine fortschrittliche Vakuumsteuermaschine mit Lastverriegelung zur effizienten Übertragung von Wafern in und aus der Kammer sowie zur Reduzierung von Kontaminationen aus der Prozessumgebung. TEL Trias ist auch in der Lage, Ätzprozesse entsprechend der jeweiligen Anwendung zu optimieren. Dazu gehören Fähigkeiten wie einstellbare Ätzrate, einstellbare Homogenität und Gleichmäßigkeit und einstellbare Ätztiefe, die alle genau für einen beliebigen Prozess angepasst werden können, was eine verbesserte Ausbeute, Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Das Tool bietet auch erweiterte Überwachungs- und Steuerungsfunktionen wie Temperaturrückkopplung und Endpunkterkennung, die eine automatische Messung und Rückmeldung von Prozessparametern ermöglichen. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Trias ein fortschrittliches Etch/Asche-Asset, das präzise Ätz- und Ascheoperationen sowie einstellbare Verarbeitungsparameter bereitstellt, die auf bestimmte Anwendungen zugeschnitten werden können. Die stabile Arbeitsumgebung des Modells, die temperatureinheitliche Verarbeitung sowie fortschrittliche Überwachungs- und Steuerungsfunktionen machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Herstellung einer Vielzahl fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.