Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293824449 zu verkaufen
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ID: 293824449
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system
3D NAND dedicated chamber.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein hochmoderner Ätzer und Ascher, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist ein reaktives Ionenätzgerät (RIE) mit branchenführender Leistung und Zuverlässigkeit. Es ist weit verbreitet in der Herstellung von Halbleiterchips, einschließlich der Ätzung von mikroelektronischen Strukturen, Polymeren und Nanostrukturen. TEL Trias ist ein Multi-Prozess-System, das Ätz-, Asche- und Reinigungsprozesse in einer Einheit durchführen kann. TOKYO ELECTRON Trias verwendet eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle in Verbindung mit HDPCVD (High Density Plasma Chemical Vapor Deposition), um einen hochoptimierten Ätzprozess zu liefern. Trias setzt eine ausgeklügelte Steuerungsmaschine ein, die reibungslose, hochgenaue Ätz-/Aschevorgänge ermöglicht. Es bietet auch eine Vielzahl von Kammerkonfigurationen für eine Vielzahl von Anwendungen. Ausgestattet mit seinem Chamber FirstTM Sensor ist er in der Lage, das Kammerinnere zu überwachen und Verschmutzungen zu verhindern. Darüber hinaus bietet TEL/TOKYO ELECTRON Trias eine innovative MultiChamberTM Funktion, die es Anwendern ermöglicht, gleichzeitige Prozesse in mehreren Kammern durchzuführen. Diese Funktion ist ideal für viele Ätzprozesse, da sie Kosten und Zeit erheblich reduziert. Darüber hinaus verfügt TEL Trias über ein flexibles GasTM-Tool, mit dem je nach Prozessbedarf verschiedene Arten von Gasen und Kombinationen ausgewählt werden können. TOKYO ELECTRON Trias ist auch sehr effizient bei der Verwaltung von Prozessdaten. Es verfügt über eine ProcessSmartTM-Datenerfassung, die es ermöglicht, Prozessdaten in Echtzeit zu überwachen und auszuwerten. Das fortschrittliche Analysemodell bietet Anwendern wertvolle Einblicke in ihre Prozesse, um die Produktivität zu optimieren. Schließlich wurde Trias entwickelt, um potenzielle menschliche Fehler zu minimieren und Wartungskosten zu senken, was es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleiterchips auf kostengünstige Weise macht.
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