Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9049825 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9049825
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
CVD System, 12"
(2) Chambers: CVD & ALD
Process: NiOx, HfOx
Trias cluster: (2) Loadports
EX Module, PM2
LM: Front end / UPS
Main power distribution (MPD)
Transfer module, TM
High-k CVD reactor (PM4):
Thermal based deposition
Plasma capability: No
Includes: Spares
High-k CVD reactor, PM2:
Retrofitted for thermal ASFD (ALD) based deposition
Plasma capability: No
Includes:
Ozone capability
LDS Systems:
(3) Schumacher chemguard LDS (Air products)
Multi candi LDS (Air liquid)
PM2:
Hafnium
Nickel
Titaan
Vanadium
PM4:
Hafnium
Nickel
Titaan
Ruthenium
Strontium
PM4 Transformer box (Hi-K) option elec box:
(2) Touch screens ozonizer, PM2
(3) H2O Boxes: Air products schumacher CGII500 LDS
Process used: NiOx
Complete platform + (2) chambers CVD & ALD
Trias cluster
(2) Loadports
Manuals included
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine multifunktionale Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es verfügt über einen fortschrittlichen alkalischen Ascheprozess, der induktiv gekoppelte Plasmaquellen (ICP) für die Hochgeschwindigkeitsreinigung von Proben mit hoher Dichte verwendet. Das System bietet auch eine fortschrittliche Trockenätzplattform für ultrahochdichte Geräte und bietet eine Reihe von Verfahren zum Ätzen von III-V-Geräten und Nanowire-Strukturen. TEL Trias verfügt über eine vollständig einstellbare Kammer- und Gasfördermaschine, die eine präzise Steuerung und Optimierung der Kammerbedingungen und Ätzparameter wie Gasfluss, Ätzrate, Temperatur und Druck ermöglicht. Dies gewährleistet eine hervorragende Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit der Ätzergebnisse. Das Werkzeug verfügt auch über einen integrierten Robotermechanismus zur effizienten Automatisierung des Be- und Entladens von Proben, wodurch das manuelle Be- und Entladen von Proben entfällt. Darüber hinaus bietet TOKYO ELECTRON Trias asset integrierte Tools zur Prozessdiagnose und -überwachung sowie Echtzeit-Optimierungsfunktionen, die eine genauere Prozesskontrolle und verbesserte Erträge ermöglichen. Trias-Modell unterstützt eine breite Palette von Ätzgasen, einschließlich Chlor, Fluor, Chlortrifluorid und Stickstofftetrafluorid. Es verfügt auch über eine In-situ-Gaslieferanlage für konsistente Prozessleistung und ausgezeichnete Wiederholbarkeit. Der Ätzprozess kann einfach auf spezifische Geräteanforderungen abgestimmt werden. Darüber hinaus verfügt das System über eine mehrwellige, spektrale Überwachungseinheit, die eine Optimierung der Ätzergebnisse für bestimmte Geräteanforderungen ermöglicht. Diese Maschine ist in der Lage, den Ätzprozess mittels optischer Emissionsspektroskopie in Echtzeit zu messen und enthält ein Datenanalysepaket zur Optimierung des Ätzprozesses. TEL/TOKYO ELECTRON Trias-Tool verwendet fortschrittliche Sicherheits- und Umweltkontrolltechnologie, um einen sauberen, trockenen und sicheren Betrieb für Ätzprozesse zu gewährleisten. Es wurde auch für eine kompakte Stellfläche konzipiert und kann leicht in ein Standard-Forschungslabor passen, so dass es eine ideale, kostengünstige Wahl für die heutigen Forschungs- und Geräteherstellungsanforderungen ist.
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