Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9094190 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein Plasmaätzer/ascher für die Herstellung und Forschung und Entwicklung von Halbleiterbauelementen. TEL Trias Ätzer verfügt über eine Multi-Gun thermische PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) Quelle, ermöglicht High-Speed, hoch detaillierte Ätzung auf mehreren Schichten von Materialien. Es verfügt auch über eine patentierte Applied Negative Bias (ANB) -Technologie zur Kontrolle der Plasmadichte, die eine gleichmäßige Ätztiefe über alle Substratmaterialien ermöglicht. Der Ätzer ist einfach zu bedienen, mit automatisierter Prozesssteuerung und programmierbaren Parametern, die den Betrieb mit niedrigen Kosten und maximalem Ertrag ermöglichen. Die Substrattemperatur des TOKYO ELECTRON Trias Ätzers kann bis 370C für präzises Ätzen programmiert werden. Das Verfahren arbeitet unter niedrigem Druck, und das Ätzen erfolgt in einer Vakuumkammer mit stromgesteuerter Vorspannung. Trias Ätzer ist in der Lage, hochgenaue Ätzungen zu produzieren und verfügt über eine hohe Prozesswiederholbarkeit und kleine Prozessfehler. Es kann auch Materialien einschließlich Polysilizium, SiO2 und III-V Materialien mit Präzision ätzen. TEL/TOKYO ELECTRON Trias Ätzer verfügt über Antikontaminationsmaßnahmen, die einen Saphir-Suszeptor, ein Fluorkohlenstoff-Spülgas und einen Quelltemperaturmonitor umfassen. Der Ätzer wurde entwickelt, um Partikelverunreinigungen zu minimieren und verfügt über ein fortschrittliches partikelarmes Filtersystem für zusätzliche Sauberkeit. Mit seinem hohen Durchsatz, der einfachen Bedienung und der ausgeklügelten Plasmasteuerung ist TEL Trias ein erstklassiger Ätzer für jede Halbleiterbauelementproduktion oder jeden Forschungs- und Entwicklungsprozess.