Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9226880 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein Ätzer/Ascher, der speziell für die Entfernung von Oxiden, Polyimiden, Metallen und Photoresist aus Substraten entwickelt wurde. Dieser Ätzer/Ascher verwendet chloridbasierte Plasmaätztechnologie, um unerwünschte Materialien bei minimaler dielektrischer Schädigung und präziser Ätzmusterkontrolle schnell und präzise zu entfernen. TEL Trias eignet sich für den Einsatz auf oxidbasierten Substraten wie SiO2 mit Ätzzeiten von weniger als 20 Minuten/Lauf und weist einen weiten Betriebstemperaturbereich von -35 ° C bis + 35 ° C auf. Der Ätzprozess von TOKYO ELECTRON Trias nutzt drei Hauptkomponenten: ein Ätzgas, ein HF-Netzteil und eine Ätzplatte. Das Ätzgas wird durch die Ätzplatte angetrieben und wandelt sich dort in ein Niederdruckplasma um. Dieses Plasma reagiert mit den Targetmaterialien auf dem Substrat, ionisiert es direkt und tritt flüchtige Partikel ab, wobei gleichzeitig die Targetmaterialien erwärmt werden, so dass sie mit kaum makroskopischen Flächenschäden auf dem Substrat weggeätzt werden können. Das HF-Netzteil erzeugt eine HF-Spannung, die auch zur Anregung des Ätzgases und zur Erzeugung von Niederdruckplasma verwendet wird. Der HF-Generator weist einen weiten Bereich von Betriebsfrequenzen von 0,3 MHz bis 1MHz und einen weiten Bereich von HF-Leistungen von Erstimpuls bis Zweitimpuls bis zu einem beliebigen Drittimpuls auf. Die schnelleren Impulse sind typischerweise für erhöhtes Bogenabsputtern (Hartstoffabtrag), während längere Impulse erhöhte makroskopische Flächenschäden ermöglichen. Die exakte Kombination von Leistung und Frequenz kann angepasst werden, um den optimalen Ätzzustand und die Strukturierung von Materialien auf dem Substrat zu schaffen. Die Ätzplatte von Trias ist aus Quarz aufgebaut und soll das Plasma gleichmäßig über die Oberfläche des Substrats verteilen, ausgelegt für maximale Ätzeffizienz und Gleichmäßigkeit. Mit der Fähigkeit von bis zu 3 "Substratgröße und einer Waferstufengröße von bis zu 0,1 mm sorgt die Ätzplatte für ein gleichmäßiges Ätzen über das gesamte Substrat. Der Ätzer/Ascher TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist ein effizientes und präzises Werkzeug zur genauen Entfernung von Oxiden, Polyimiden, Metallen und Photoresist von Substraten. Mit seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle, den einstellbaren Frequenz- und Leistungseinstellungen sowie der Quarzätzplatte ist TEL Trias die perfekte Lösung zum Ätzen und Aschen von Substraten für Forschung und Produktion.