Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9234139 zu verkaufen
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ID: 9234139
Weinlese: 2013
System, parts machine
Missing parts:
EFEM: Main PC / Robot controller
Transfer module: TM Robot / Robot controller
Process chamber: ESC
2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die zur aktiven Schichtbildung auf Waferoberflächen vor der Metallabscheidung verwendet wird. Das System ist eine Inline-Ätz-/Fermentationskammer mit Trockenplasma-Technologie zur Anionenabscheidung und verwendet ein maßgeschneidertes Gasgemisch vom Einlass zur Reaktionskammer. TEL Trias-Einheit eignet sich für die Herstellung von hochpräzisen Bauelementen wie Feldeffekttransistoren (FETs). Es ist in der Lage, Waferdurchmesser von 18 mm bis 800 mm zu handhaben, wobei 300 mm und 450 mm die Standardgrößen sind, die in der Produktion verwendet werden. Verfahren, die von Oxidätzen, Nitridätzen, Polysiliziumätzen und Metallsputterätzen reichen, können alle mit genauer Kontrolle über Ätzrate, Selektivität, Gleichmäßigkeit und Ionenverunreinigung durchgeführt werden; sowie die Minimierung der Kontamination aus den Flüssigkeiten und Verwendung von voreingestellten Rezepten. TOKYO ELECTRON Trias Maschine ist in der Lage, Ätzprofile im Bereich von 0,3 μ m bis 10 μ m oder höher in Bezug auf die Funktionssteuerung ohne die Notwendigkeit von Hilfswerkzeugen zu liefern. Es nutzt Zwei-Frequenz-Quellenleistung, um intensives, selbststabiles trockenes Plasma in der Reaktionskammer zu erzeugen, während die Ionenerzeugung gesteuert wird. Dies ermöglicht zusammen mit dem anpassbaren Quellgasgemisch hocheffiziente und präzise Ätzergebnisse. Das Werkzeug bietet auch Wafer Stepper Kompatibilität, ermöglicht eine schnelle Wafer-Transfer und die Sicherstellung von guten Gesamt Wafer Prozessergebnisse. Das Asset ermöglicht außerdem einen Durchsatz von bis zu 20 Wafern pro Minute und eine vollständige Wafer-Mapping-Funktion. Darüber hinaus ermöglicht die Trias-Inline-Ätz-/Fermentationskammer die Steuerung einer Vielzahl von Reaktionsparametern. Es verfügt über eine Reihe von Überwachungsoptionen, um die Wiederholbarkeit zu gewährleisten, einschließlich Druck- und Temperaturmessung, Massenspektroskopie und Graphitofenbetrieb. Dank seiner hocheffizienten und präzisen Ätzergebnisse wird das Modell TEL/TOKYO ELECTRON Trias in der Halbleiterherstellung weit verbreitet eingesetzt und ist damit eines der beliebtesten Ätz-/Aschersysteme im Feld. Es hat sich als fähig erwiesen, thermische Oxidschichten mit hervorragenden Gapfill-und Topographie-Fähigkeiten sowie ausgezeichnete Mobilitäts- und Selektivitätswerte zu schaffen. Seine Kombination aus Genauigkeit und Zuverlässigkeit macht es zu einem wertvollen Werkzeug bei der Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte.
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