Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9235254 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 9235254
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2018
Systems, 12" Process: Metal 2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschermaschine, die von TEL, einem führenden Anbieter von Prozessanlagen für die Halbleiterindustrie, hergestellt wird. TEL Trias kombiniert modernste Ätz- und Aschetechnik mit überlegenen Steuerungssystemen, um ein hocheffizientes und präzises Verfahren zum Ätzen und Aschen verschiedener Materialien zu bieten. TOKYO ELECTRON Trias verwendet eine Plasmaquelle, um Substrate wie Wafer, Masken und Sterben sicher, kontrolliert und umweltfreundlich zu ätzen und zu aschen. Die Einheit umfasst eine LPCVD-Unterschichtabscheidekammer, eine reaktive Ionenätzkammer (RIE) und eine Aschekammer. Die LPCVD-Unterschichtkammer ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung von ALD- und LPCVD-Folien in einer einzigen Kammer mit hoher Präzision und Stabilität. Die RIE-Kammer ätzt flache und tiefe Strukturen mit einem sehr gleichmäßigen Grabenprofil. Darüber hinaus verfügt die RIE-Kammer über eine Tiefenunterdrückungsplasmaquelle, die tiefe Gräben beim Ätzen in Strukturen mit hohem Seitenverhältnis gewährleistet. Die Aschekammer von Trias ist dafür verantwortlich, bestimmte Materialien von der Substratoberfläche zu entfernen, wie Polymere, Oxide, Nitride, Metalle und andere Materialien. Die Aschemaschine ist mit einer hochdichten Plasmaquelle ausgestattet, die hohe Ätzraten und Gleichmäßigkeit über die Substratoberfläche liefert. Zusätzlich wird das Ascheverfahren in einer sicheren, inerten Atmosphäre durchgeführt, die das Substrat vor Oxidation und Verunreinigungen abschirmt. TEL/TOKYO ELECTRON Trias Werkzeug verfügt auch über eine erweiterte Steuerung, die eine präzise Kontrolle über die Ätz- und Ascheprozesse gewährleistet. Dies gewährleistet die Gleichmäßigkeit von Substrat zu Substrat, Wiederholbarkeit und Konsistenz auf mehreren Substraten. Darüber hinaus arbeitet das Modell mit hohem Wirkungsgrad, da die Ätzzeit reduziert und die Möglichkeit der Nacharbeit minimiert wird. Insgesamt ist TEL Trias ein hochmoderner Ätzer/Ascher, der fortschrittliche Ätz- und Aschetechnologie mit überlegenen Steuerungssystemen kombiniert, um maximale Effizienz und Genauigkeit beim Ätzen und Aschen verschiedener Materialien zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Trias System eignet sich für verschiedene Vakuum- und Plasmaprozesse, wie LPCVD, Plasmaätzen und Asche. Darüber hinaus gewährleistet seine fortschrittliche Steuereinheit eine präzise Kontrolle des Ätz- und Ascheprozesses und seine hohe Effizienz garantiert kurze Ätzzeiten und minimale Nacharbeitungsmöglichkeiten.
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