Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9357277 zu verkaufen
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ID: 9357277
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
CVD System, 12"
Process: BL GL TiN Dep
BROOKS AUTOMATİON TLG-LON Load port, (3) FOUPs
SHINKO SELOP12F25-30A-13
SHINKO SBX92101286-3 FI Robot
FUJI M-UPS050J22L-UL UPS
SANEI GIKEN TL7KCPVB-2P Chiller
MPD
Transformer box
Mainframe:
YASKAWA XU-RVM4100 Buffer robot
V TEX I-I-98009-2-1 LLM1.2 Gate valve
KITZ DOUBLE ACTION Chamber gate valve
Process chambers: PM1, PM2, PM3, PM4
Single wafer chamber
With stage heater
RKC INSTRUMENT INC Module heater controller
TEL TMC2001 Module heater controller
Cubic trap
VERIFLO SQ-MICRO-602PUPGPA Regulator
LEYBOLD TSR211S Pirani sensor
INFICON VSA100A Pressure Sensor
MKS 626A01TDE Capacitance manometer
LEYBOLD CDG160A-S 1330PA Capacitance manometer (1333Pa)
LEYBOLD CDG160A-S 133PA Capacitance manometer (133KPa)
STEC VC131004ST20 Vaporizer (TiCL4)
Gases:
Gas / Make / Model / Valve
MFC2 / ClF3 / SAM / SFC1470FA / 500 SCCM
MFC3 / N2 / SAM / SFC1480FAPD / 0.6/2 SLM
MFC5 / NH3 / SAM / SFC1481FA / 5 SLM
MFC6 / NH3 / SAM / SFC1480FAPD / 300 SCCM
MFC7 / N2 / SAM / SFC1480FAPD / 0.6/2 SLM
MFC8 / NH3 / SAM / SFC1480A / 1 SLM
MFM / TiCl4 / STEC / SEF-8240 / 100 SCCM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias ist eine Ätz-/Ascher-Ausrüstung für komplexe und fortschrittliche Mikrofabrikationsanwendungen. Es ist in der Lage, kostengünstige Produktion mit hohem Durchsatz und mit überlegener Prozesssteuerung. Das System umfasst Funktionen wie eine dreiachsige Stufe zur genauen Ausrichtung von Wafern und eine automatische Zuordnungseinheit, um ein gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Die Maschine ist in der Lage, Wafergrößen von 6 „bis 12“ zu handhaben. Es kann auch die Ätzzeit für jede Anwendung abschätzen, so dass Benutzer den Produktionsdurchsatz maximieren können. Es verwendet eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle, um ein gleichmäßiges Ätzen über den gesamten Waferbereich zu ermöglichen. TEL Trias Werkzeug verfügt über eine fortschrittliche Kammerdesign Kontamination zu reduzieren. Es beinhaltet eine leistungsstarke zylindrische Pumpe und eine großvolumige Speicherbox, um die Auspuffzeit zu reduzieren. Die Box enthält auch ein dynamisches Reinigungsmittel, um zuverlässige Ätzbedingungen zu gewährleisten. Das Modell ist prozessautomatisiert, um Produktivität und Qualität zu gewährleisten. Automatische Fokussierungssysteme und Auto-Mapping werden zur Beschleunigung der Prozesseinrichtungs- und -abschlusszeiten bereitgestellt. Die integrierte Ätzkammer ist auf Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit während des gesamten Prozesses ausgelegt. Eine komplette Reihe von Prozessüberwachungsfunktionen sind ebenfalls in die Ausrüstung integriert. Dazu gehören mehrkanalige Echtzeitüberwachung von Prozessparametern, Lecksuche, Druckausgleichsüberwachung, Waferausrichtungen und andere Prozessparameter. Alle Parameter sind für jede Anwendung einstellbar. Das System bietet auch eine Online-Hilfefunktion mit einer umfassenden Datenbank mit Informationen zu Setup, Betrieb und Fehlerbehebung. Fehlerberichte und Alarme werden bereitgestellt, damit Benutzer prozessbezogene Probleme schnell erkennen und beheben können. Schließlich verfügt das Gerät über mehrere Sicherheitsmerkmale, die die Sicherheit und Zuverlässigkeit des Bedieners während des Ätzvorgangs gewährleisten. Dazu gehören eine Überdruckisoliermaschine, ein HF-Leckagedetektor, ein Abgasregelwerkzeug und weitere Sicherheitsmerkmale.
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