Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS #293767179 zu verkaufen

ID: 293767179
Weinlese: 2007
Etcher Process: Oxide (5) Loadports iH160 Pumps: Chamber position / Gases Unit 1 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 2 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 3 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 4 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS ist eine hochentwickelte Ätz-/Ascher-Ausrüstung für die Verarbeitung von Substraten in der Halbleiterindustrie. Diese hochmoderne Ausrüstung bietet eine breite Palette an Möglichkeiten, um den Anforderungen heutiger Halbleiterherstellungsprozesse gerecht zu werden und ist somit ein wesentliches Werkzeug für hochpräzise Ätz- und Reinigungsanwendungen. TEL TSP-305555SSSS ist mit einem hochmodernen Gasfördersystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung der Ätz- und Reinigungsprozesse ermöglicht. Die Einheit verfügt über mehrere Gaskanäle, jeweils mit unabhängiger Strömungssteuerung, so dass die Anpassung von Gasgemischen und Durchflussraten zur Optimierung der Prozessleistung. Dieses Kontrollniveau ist für die Erzielung einheitlicher und reproduzierbarer Ergebnisse in einer Vielzahl von Substratmaterialien und -größen unerlässlich. Eines der Hauptmerkmale von TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS ist seine fortschrittliche Plasmaerzeugungsmaschine, die für die Schaffung der für Ätz- und Reinigungsprozesse benötigten reaktiven Spezies unerlässlich ist. Das Werkzeug nutzt hochfrequente HF-Leistung, um ein Plasma zu erzeugen, das auf die spezifischen Anforderungen jedes Prozesses abgestimmt werden kann. Diese Flexibilität ermöglicht die Handhabung unterschiedlichster Materialien, von Silizium über Siliziumdioxid bis hin zu Metallen und Dielektrika, mit Präzision und Effizienz. Neben der Plasmaerzeugung verfügt TSP-305555SSSS über eine robuste Vakuumanlage, die eine stabile Verarbeitungsumgebung gewährleistet. Das Modell verfügt über eine Hochleistungs-Turbomolekularpumpe, die eine schnelle Evakuierung der Bearbeitungskammer ermöglicht, wodurch die für ein qualitativ hochwertiges Ätzen und Reinigen erforderlichen Niederdruckbedingungen geschaffen werden. Die Vakuumausrüstung umfasst auch fortschrittliche Druckregelmechanismen, um die gewünschten Prozessbedingungen während des gesamten Zyklus aufrechtzuerhalten. Ein weiterer wichtiger Aspekt von TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS ist das fortschrittliche Wafer Handling System, das für Substrate verschiedener Größen und Formen ausgelegt ist. Das Gerät verfügt über einen Roboterarm, der Wafer schnell und präzise innerhalb der Bearbeitungskammer positionieren kann und eine präzise Ausrichtung und Verarbeitung gewährleistet. Dieser Automatisierungsgrad verbessert nicht nur die Prozesswiederholbarkeit, sondern reduziert auch das Risiko von Waferschäden bei der Handhabung. TEL TSP-305555SSSS ist zudem mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ausgestattet, die es dem Bediener ermöglicht, die Geräte einfach zu programmieren und zu überwachen. Die Maschine verfügt über ein Touchscreen-Display, das in Echtzeit Rückmeldungen zu Prozessparametern wie Gasdurchflussraten, Druckniveaus und Plasmabedingungen liefert. Mit dieser intuitiven Benutzeroberfläche können Anwender jederzeit Anpassungen vornehmen, um eine optimale Prozessleistung und Produktivität zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS ein vielseitiges und zuverlässiges Ätz-/Ascherwerkzeug, das beispiellose Leistung und Steuerung für Halbleiterverarbeitungsanwendungen bietet. Seine fortschrittlichen Funktionen, einschließlich einer präzisen Gaslieferanlage, Plasmaerzeugungstechnologie, Vakuummodell, Wafer-Handhabungsfunktionen und benutzerfreundliche Schnittstelle, machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Erzielung hochwertiger Ergebnisse in der Halbleiterherstellung. Mit seinen hochmodernen Fähigkeiten und seinem robusten Design setzt TSP-305555SSSS einen neuen Standard für Ätz- und Reinigungsanlagen in der Halbleiterindustrie.
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