Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TSP-30555SSS #293765913 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TSP-30555SSS ist ein Ätzer/Ascher, der höhere Leistung Plasma, höhere Geschwindigkeit und überlegene Temperaturregelung verwendet, um High-Speed, qualitativ hochwertiges Ätzen und Aschen zu erreichen. TEL TSP-30555SSS besteht aus einer RIE-Kammer (Reactive Ion Etching), einer Plasmaquelle, einer Abgasanlage und einer entfernten Plasmaquelle, einschließlich eines MFC (Mass Flow Controller). Eine fortschrittliche interne Faraday-Cage-Struktur ermöglicht eine hochwertige Plasmabearbeitung sowie eine hohe Ätzrate, eine verbesserte Ätzgenauigkeit und ein gleichmäßiges Ätzen über die gesamte Oberfläche. Dieser Ätzer ist für die Verwendung mit einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Polymeren und Metallen, konzipiert. Der Hochgeschwindigkeitsätzprozess wird durch eine höher betriebene Plasmaquelle, einen verbesserten Temperaturregler und eine fortschrittliche automatisierte Steuerung erreicht. Die Plasmaquelle kann bis zu 1000 Watt Leistung erzeugen, was hervorragende Ätz- und Aschefunktionen ermöglicht. Der verbesserte Temperaturregler sorgt für optimale und konsistente Temperaturen für jeden Ätz- und Ascheprozess, wodurch gleichmäßige und wiederholbare Ergebnisse erzielt werden können. TOKYO ELECTRON TSP-30555SSS enthält auch eine entfernte Plasmaquelle, um gleichmäßige Ergebnisse über die gesamte Oberfläche des Substrats zu gewährleisten. Diese Steuereinheit wird von einem Computerprogramm verwaltet, so dass jeder Ätz-/Ascheprozess fein an jede einzelne Anwendung angepasst werden kann. Mit dem eingebauten MFC (Mass Flow Controller) können Rückflussrate, Sauerstoffbilanz und Druck aus der Plasmakammer exakt gesteuert werden. Darüber hinaus evakuiert die Abgasmaschine effektiv jegliche Toxizität und Abrieb, die durch den Ätzprozess erzeugt werden, und gewährleistet einen sicheren Betrieb und eine saubere Arbeitsumgebung. TSP-30555SSS Ätzer ist in der Lage, eine überlegene Leistung für eine Vielzahl von Ätz-/Ascheprozessen zu bieten. Merkmale wie Hochleistungsplasma, verbesserter Temperaturregler und eine entfernte Plasmaquelle sowie ein automatisiertes Steuerwerkzeug und MFC ermöglichen hohe Ätz- und Aschegeschwindigkeiten, qualitativ hochwertige Ergebnisse und gleichmäßiges Ätzen über die gesamte Oberfläche. Dieser Ätzer eignet sich sowohl für praktische als auch für Forschungsanwendungen und ermöglicht es Wissenschaftlern und Technikern, die vielen Vorteile dieser fortschrittlichen Ätz-/Aschetechnologie zu nutzen.