Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TSP-3055DD #9252311 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD ist ein hochpräziser Ätzer/Ascher von TEL. Es wird als Werkzeug für die Herstellung von Halbleitern oder mikroelektronischen Bauelementen verwendet, ist eine leistungsfähige Plattform für fortschrittliche Ätz- oder Aschetechnologie. TEL TSP-3055DD ist eine Trockenätzanlage, die sowohl die induktiv gekoppelten Plasma- (ICP) als auch die dielektrischen Barrierenentladungsmodi (DBD) verwendet. Der ICP-Ätzmodus wird verwendet, um kleine Muster mit hoher Selektivität zu ätzen, während der DBD-Ätzmodus für das Ätzen von dünnen Filmen verwendet wird. Zusätzlich ist das System mit einer Dosisverwaltungseinheit ausgestattet, die ein hohes Selektivitätsverhältnis und einen genau definierten Ätzprozess gewährleistet. TOKYO ELECTRON TSP-3055DD hat eine maximale Wafergröße von 300mm und einen maximalen Prozessdruck bis 10 Pascal. Es ist mit einem 100kHz - 3MHz HF-Generator ausgestattet, der einen weiten Frequenzbereich bietet und das Ätzen in verschiedenen Tiefen und Selektivität ermöglicht. Zusätzlich kommt die Maschine mit einem Quarz-Plasmareaktor mit bis zu 2kW Leistung, so dass ein hoher Substrat-zu-Brenner-Abstand und Gleichmäßigkeit. Das Automatisierungsschema von TSP-3055DD bietet eine beispiellose Wiederholbarkeit in der Prozesssteuerung. Das Automation Manager (AM) Softwarepaket ermöglicht eine Vielzahl von individuellen Parameteranpassungen und Prozessüberwachung und bietet eine Feinsteuerung von Ätzzeit, Ätzdruck, Ätzrate, Überätzen und Endpunktsteuerung. Zusätzlich ist das Tool mit einem In-situ-Spektroskopie-Asset ausgestattet, das eine Echtzeit-Messung der Ätzergebnisse ermöglicht. Neben den Ätzfunktionen verfügt TEL/TOKYO ELECTRON TSP-3055DD auch über eine Combiner Option, die ein gleichzeitiges Aschen eines Wafers ermöglicht. Diese Wafer-Waschtechnologie ist für die Photoresist-Entfernung äußerst nützlich, da sie eine Kombination aus Trockenätzen und Plasmaverdampfung verwendet. TEL TSP-3055DD bietet eine zuverlässige und genaue Ätz- und Aschetechnik. Die hochpräzisen Ätzprozesse und das automatisierte Steuermodell bieten ein völlig neues Niveau an Lithographiefähigkeit und Flexibilität und sind somit die perfekte Wahl für die anspruchsvollsten Anwendungen.