Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 855 DD #9145475 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 855 DD ist ein hochpräziser Hochdurchsatz-Ätzer/Ascher für industrielle Anwendungen. Es wurde für hohe Genauigkeit, Langlebigkeit und Zuverlässigkeit entwickelt und eignet sich für den Einsatz in der Halbleiter- und MEMS/NEMS-Industrie. TEL UNITY 2E 855DD ist ein brückenartiger planarer Ätzer/Ascher. Es wird mit einer spezialisierten Hochstrom-Hochpräzisions-Ionenquelle geladen, die aus einer kombinierten Quelle für Magnetron und Multicusp-Lichtbogen für Ätz- und Aschezwecke besteht. Die in TOKYO ELECTRON UNITY 2 E 855 DD integrierte proprietäre Elektronik bietet bis zu 5 GHz HF-Betriebsfrequenz mit Pulsfähigkeiten, die kurze Pulslängen ermöglichen. Dies ist ideal, um sehr genaue und wiederholbare Ätzfunktionen zu gewährleisten. Das Gerät arbeitet in einer breiten Palette von Kammern mit einer maximalen Kammeröffnung von 350 mm und einem maximalen Betriebsdruck von 5 Pa.Eine Reihe von Gaseinlässen und -auslässen sowie Vorverriegelungslösungen stehen zur Verfügung, um eine optimale Anpassung an die Prozessanforderungen zu gewährleisten. Das Gerät bietet eine breite Palette von steuerbaren Parametern einschließlich; Druck, Temperatur, Ätzrate und Ätzgleichmäßigkeit. Die Kombination der Merkmale in TEL UNITY 2E 855 DD ermöglicht eine hochflexible und wiederholbare Prozesssteuerung. Neben seinen Ätzfähigkeiten bietet TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2 E 855 DD mit seiner fortschrittlichen Plasmatechnik auch Aschefunktionen. Die Verwendung der Vorrichtung umfasst das Ätzen von Metallen und Dielektrika für die Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen sowie das Hochdurchsatz-Ätzen und Aschen von Resist auf Halbleitersubstraten. Es ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, einschließlich Überhitzungsschutz und Druckverriegelung, um die Sicherheit der Ausrüstung zu gewährleisten. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 855DD ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der sehr präzise Ätz- und Ascheprozesse mit einer stark wiederholbaren Prozesssteuerung erreichen kann. Mit seinem breiten Spektrum an Merkmalen und fortschrittlichen technologischen Lösungen kann es in einer Reihe von industriellen Prozessen wie der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und dem Hochdurchsatzätzen von Resist auf Halbleitersubstraten eingesetzt werden.