Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 855 DD #9290492 zu verkaufen

ID: 9290492
Wafergröße: 8"
Dry etcher, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 855 DD Ätzer/Ascher ist ein fortschrittliches chemisches Verarbeitungswerkzeug für Halbleiterverpackungen und andere fortschrittliche Anwendungen. Das Produkt basiert auf der TEL Vacuum Corrosion Remediation (VCR) Technologie. Der Ätzer/Ascher ist ein Einkammersystem, das eine eigene Vakuumquelle bietet, so dass sowohl Ätz- als auch Ascheprozesse in derselben Kammer stattfinden können. Dies ermöglicht eine überlegene Prozesssteuerung und eine geringe Verschmutzung in einem kompakten Formfaktor im Vergleich zu herkömmlichen Mehrkammersystemen. Der Ätzer/Ascher verfügt über eine hochenergetische, mikrowellenbetriebene Ionenquelle, die ein effizientes Ionenbeschuss ermöglicht, was zu einer überlegenen Prozesskontrolle und einem präzisen Ätzen mehrerer Materialien führt. Es kann auch als Ascher durch sein integriertes Sauerstoff-Injektionssystem dienen und bietet eine überlegene Reinigung von Teilen mit seinem technischen Vorteil des Low-Konzentration Oxygen Control Protocol (OCP). Der Ätzer/Ascher verfügt über zusätzliche Funktionen, um die Ätz- und Aschegenauigkeit und Flexibilität weiter zu verbessern. Dazu gehören eine Leistungsquelle mit variabler Frequenz, ein fortschrittliches Düsendesign zur verbesserten Prozesssteuerung, eine patentierte DCMC (Diffusionskühlung und Mikrowellenanschluss) -Technologie zur verbesserten Prozesssteuerung, ein Mehrzonen-Gasflussregelsystem und eine Reihe von Düsenspitzen zur Prozesssteuerung. Die kompakte Bauweise der Ätz-/Aschereinrichtung verleiht dem Gerät zudem Zuverlässigkeit und Flexibilität und ermöglicht die Verwendung verschiedener Formate wie Paneele, Substrate und Wafer. Diese Funktion bietet auch Werksautomatisierung aufgrund seiner Kompatibilität mit Standard-Automatisierungsplattformen und verbesserte Sicherheit aufgrund seiner benutzerfreundlichen Funktionen und Automatisierungsfunktionen. TEL UNITY 2E 855DD etcher/asher ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascherlösung, die überlegene Flexibilität, Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit gegenüber herkömmlichen Mehrkammersystemen bietet. Die mikrowellenbetriebene Ionenquelle, die Stromquelle mit variabler Frequenz und das fortschrittliche Düsendesign machen es zu einer idealen Wahl für alle Halbleiterverpackungs- und Ätz-/Ascheranwendungen. Es ist auch eine attraktive Option für Benutzer aufgrund seiner geringen Stellfläche, verbesserte Sicherheitsfunktionen und Werksautomatisierungskompatibilität.
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