Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity II #184470 zu verkaufen

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ID: 184470
SSCM chamber, 8" Configuration with Yttrium Process Kit Unity M Platform Turbo Pump Seiko Seiki Stp A2203 Wi-U For The Sccm Chamber Software Rev.3.60 End point detector box 12 Gas Configuration: GAS PM1 C4F8 30 C5F8 20 CO 500 AR 1000 O2 30 CH3F 50 C4F6 30 N2 500 CF4 100 CHF3 100 O2 1000 H2 500 Accessories: (1) Alcatel Dry Pump Adp122 P For Process Chamber (1) Chiller Smc Tcu Dual Channel, Pm1 (1) Generator Rack For Pm1 60mhz And 2 Mhz Chamber currently installed in system 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity II ist eine Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die zur Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelementstrukturen verwendet wird. Es ist ein vollautomatisches System, das eine Gasphasenreaktionskammer verwendet, um Substratätzen und Aschen zu erreichen, was zu einer atomaren Präzisionsfilmdickensteuerung und einer hohen Gleichmäßigkeit über den Wafer führt. Die Maschine unterstützt mehrere Prozesse und ist mit fortschrittlichen Prozessen wie HF (Ätzen), ICP (Ätzen), CVA (CVD), Glühen und Trockenätzen ausgestattet. Das Gerät ist für eine breite Palette von Anwendungen geeignet, einschließlich 3D-Kondensatorherstellung, über Lochfüllung, Metallisierung, Ätzen von starren und flexiblen Substraten und ultraglattes Oberflächenätzen. TEL Unity II ist für Einzelwaferätzen, Ascher und externe In-Sequenz-Abscheidung konzipiert. Es verfügt über eine automatisierte Lastschließmaschine, Lastüberwachung und Prozesssteuerung. Das Ätz-/Ascherwerkzeug wurde entwickelt, um eine stabile Prozesskontrolle und eine verbesserte Prozessausbeute mit einer breiten Palette von Materialien wie Polyimid, Polyethylenterephthalat, Metallen und dielektrischen Materialien auf Siliciumdioxidbasis zu gewährleisten. Die erweiterten Planungs- und Testmöglichkeiten, einschließlich Dünnschichtmassenüberwachung, Einheitlichkeitsbewertung und Musterzielätzen mit variablen Geometrien, tragen zur Prozessoptimierung bei. Die Gasphasen-Reaktionskammer in TOKYO ELECTRON Unity II Ätzer/Ascher Asset wird mit einer dynamischen Druckregelung betrieben, um Flexibilität im Prozess zu ermöglichen. Die Z-Richtung Wafer Flow Design der Kammer ermöglicht eine Reihe von komplexen Ätzoperationen, die In-line und Coulombic Self-Bias (CSB) Techniken verwenden. Die Kammer ist außerdem mit Inline-Reaktionsmonitoren zur Überwachung der Ätzaktivität und der Reaktionsbedingungen ausgestattet. Unity II Ätzer/Asher-Modell umfasst auch anspruchsvolle Grafikverarbeitungssoftware und Vakuumkammersteuerungssysteme, um die Prozessoptimierung zu erleichtern, Werkzeugausfallzeiten zu reduzieren und die Ausstattungskontinuität für Multi-Wafer-Operationen zu verbessern. Darüber hinaus verfügt das System über eine breite Palette von Sicherheitsfunktionen wie redundante PID-Steuerung und Wahl des HF- oder Mikrowellennetzwerks. TEL/TOKYO ELECTRON Unity II Ätzer/Ascher-Einheit ist ein Präzisionswerkzeug für die Geräteherstellung und ist für einen kontinuierlichen, zuverlässigen Betrieb ausgelegt. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und der robusten Technik ermöglicht die Ätz-/Aschermaschine die Herstellung auch extrem komplexer Strukturen mit atomarer Kontrolle und hoher Gleichmäßigkeit. Es ist eine ideale Wahl für die schnelle Herstellung von Hochleistungs-Halbleiterbauelementen mit engen Toleranzanforderungen bei Produktionsgeschwindigkeiten.
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