Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 655PP #293794284 zu verkaufen

ID: 293794284
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2001
Etcher, 6" Wafer type: Flat (7) Gas lines Gases: CF4, CHF3, Ar, N2 DAIHEN MFG-20SA3 RF Generator FUJIKIN Manual valve (3) MILLIPORE WG2FT1RR2 Filters (2) VERIFLO SQ60502PFSMM Regulators VERIFLO SQ140E502PFSMM Regulator KURODA B35-2G Regulator NKS Pressure gauge NAGANO KEIKI CB14 Pressure switch Pneumatic valve: CKD AVB21-X0038-FL Vacuum valve FUJIKIN General protective valve VAT 26332-KA71-1001/345 Isolation valve Gas box: Size: 100 Φ Range: 100 CFM 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 65DP ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine, die in der Halbleiterindustrie für präzise Mustertransfer- und Materialabtragungsprozesse eingesetzt wird. Diese moderne Ausrüstung wurde entwickelt, um außergewöhnliche Prozessgleichmäßigkeit, hohe Produktivität und überlegene Wiederholbarkeit für kritische Ätz- und Ascheanwendungen in der Halbleiterherstellung zu bieten. TEL Unity IIe 65DP ist mit einem einzigartigen Dual-Platen-Design ausgestattet, das eine gleichzeitige Verarbeitung auf zwei separaten Substraten ermöglicht und einen erhöhten Durchsatz und Effizienz ermöglicht. Dieses Merkmal ist besonders vorteilhaft für serienreiche Umgebungen, in denen die Aufrechterhaltung einer hohen Produktivität entscheidend ist. Darüber hinaus bietet das System eine hohe Flexibilität und Skalierbarkeit, die eine einfache Integration in bestehende Fertigungslinien und eine Vielzahl von Prozessanforderungen ermöglicht. Eines der wichtigsten Highlights der TOKYO ELECTRON Unity IIe 65DP ist die fortschrittliche Prozesssteuerung, die präzise und konsistente Ergebnisse auf mehreren Substraten gewährleistet. Das Gerät ist mit fortschrittlicher Endpunktdetektionstechnologie, Plasmaüberwachungssensoren und Echtzeit-Prozessüberwachungswerkzeugen ausgestattet, um eine präzise Prozesssteuerung und -optimierung zu ermöglichen. Dieser Regelungsgrad ist für die Erreichung der gewünschten Ätz- und Ascheraten sowie für die Aufrechterhaltung der Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit bei gleichbleibender Geräteleistung unerlässlich. Unity IIe 65DP verfügt über eine Hochleistungs-Plasmaquelle, die eine sehr gleichmäßige und stabile Plasmadichte für effiziente Materialabtragungs- und Ätzprozesse liefert. Die Maschine verwendet eine Kombination aus chemischen und physikalischen Ätzmechanismen, um eine hohe Selektivität und Prozesskontrolle zu erreichen, wodurch sie für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist, einschließlich Ätzen von dielektrischen Schichten, Mustertransfer und Photoresist-Asche. In Sachen Werkzeugdesign wird TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 65DP mit dem Fokus auf Zuverlässigkeit, Wartungsfreundlichkeit und benutzerfreundliche Bedienung gebaut. Das Asset ist mit automatisierten Wafer-Handling-Funktionen, fortschrittlichen Gas-Delivery-Systemen und intuitiven Software-Schnittstellen ausgestattet, die eine nahtlose Bedienung und Prozessüberwachung ermöglichen. Das Design des Modells ermöglicht zudem einen einfachen Zugang zu wichtigen Komponenten für Wartung und Wartung, reduziert Ausfallzeiten und sorgt für einen kontinuierlichen Betrieb in einer Produktionsumgebung. Darüber hinaus ist TEL Unity IIe 65DP mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen und Umweltkontrollmaßnahmen ausgestattet, um die Sicherheit des Betreibers und die Einhaltung der Industrievorschriften zu gewährleisten. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um den Gasverbrauch zu minimieren, Emissionen zu reduzieren und eine saubere Prozessumgebung aufrechtzuerhalten, um strenge Industriestandards für Prozessreinheit und -sicherheit zu erfüllen. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Unity IIe 65DP ein hochmodernes Ätz-/Aschersystem, das leistungsstarke Funktionen, außergewöhnliche Prozesssteuerung und fortschrittliche Technologie für anspruchsvolle Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seinem Dual-Platen-Design, fortschrittlichen Prozesssteuerungsfunktionen und einer benutzerfreundlichen Oberfläche ist Unity IIe 65DP eine ideale Lösung für Serienumgebungen, die präzise und zuverlässige Ätz- und Ascheprozesse erfordern.
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