Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD #293646425 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher mit Dreikammerdesign. Es ist mit einem einzigartigen Dual-Mode-Etch/Asche-Verfahren ausgestattet, das den Ätz- und Abscheidungsprozess in einem einzigen Schritt kombiniert. Dieses Verfahren liefert hohe Produktivität, Gleichmäßigkeit und Ausbeuten bei minimalem Abfall. TEL UNITY IIE 855 DD hat eine Kammergröße von 425 x 425 x 200 mm, wodurch mehrere Substrate gleichzeitig bearbeitet werden können. Es ist mit einer Dual-Achsen-X-Y-Scan-Fähigkeit ausgestattet, die eine exakte Positionierung von Ätzen und Abscheidung ermöglicht. Es verfügt außerdem über einen programmierbaren Substrat-Abhebemechanismus, der es ermöglicht, bei höheren Geschwindigkeiten mit einer höheren Genauigkeit zu arbeiten. Der Ätzer/Ascher ist auch mit einer Reihe von fortschrittlichen Automatisierungs- und Steuerungen ausgestattet, einschließlich automatischem Laden und Entladen von Wafern, Echtzeit-Fernüberwachung und -diagnose und einem leistungsstarken Prozesssteuerungsalgorithmus. TOKYO ELECTRON UNITY II E-855DD ist in der Lage, automatisch optimale Ätz-/Ascherezepte für verschiedene Anwendungen zu erzeugen. Darüber hinaus ist es mit der Fähigkeit, ohne Ätzgas zu arbeiten, so dass es für verschiedene Arten von Ätz- und Abscheidungsprozessen geeignet ist. UNITY II E-855DD verfügt über erhöhte Sicherheitsmerkmale wie ein Umweltüberwachungssystem und ein Stickstoffinrush-Schutzsystem, das das Risiko von Ätzgasexplosionen reduziert. Es hat auch ein automatisches Reinigungssystem, wodurch die Notwendigkeit einer häufigen Wartung entfällt. TEL UNITY II E- 855DD ist mit einem breiten Prozessfenster und einer hocheffizienten Plasmaquelle konzipiert und eignet sich sowohl für Hochdurchsatzätz- als auch für qualitativ hochwertige Abscheidungsanwendungen. Insgesamt ist UNITY II E- 855DD ein leistungsstarker und vielseitiger Ätzer/Ascher mit einer Vielzahl fortschrittlicher Funktionen. Es verfügt über eine umfassende Palette von Prozesssteuerungssoftware, Automatisierungs- und Sicherheitsfunktionen und ist somit eine gute Wahl für hochpräzise Ätz- und Abscheideprozesse. Darüber hinaus eignen sich die hocheffiziente Plasmaquelle und das breite Prozessfenster für Anwendungen mit hohem Durchsatz und hoher Qualität.