Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855II #9236727 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855II
ID: 9236727
Wafergröße: 8"
Oxide etchers, 8" (2) Chambers.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 855II ist eine Ätz-/Aschereinrichtung für Halbleiteranwendungen. Es bietet eine vollständige Palette von erweiterten Ätz-/Aschefunktionen in einer kleinen Stellplatzmaschine. TEL UNITYIIE-855 II hat eine Kammergröße von 676 x 762 x 457 mm (B x T x H), die die Bearbeitung großer Stückzahlen in einer bestimmten Charge ermöglicht. Es unterstützt mehrere Wafergrößen von 4 „bis 12“ mit einer NAD-Kapazität von bis zu 62 Wafern. Es verwendet ein Parallelverschluß-Ätz-/Ascheverfahren, das es erlaubt, gleichmäßige dünne Schichten mit präzisen Aspektverhältnissen zu verarbeiten. Das System verfügt zudem über eine Dreifachmusterfähigkeit an der Vorderseite, die im Vergleich zu einer herkömmlichen Ätz-/Asche schnellere Prozesse ermöglicht. Die Unity IIe beinhaltet eine Mehrkammer-sequentielle Prozessarchitektur, so dass Prozesse getrennt in verschiedenen Kammern vor der Rekombination zu einer einzigen Kammer stattfinden. Bis zu neun verschiedene Prozesse können auf einem Substrat in einem einzigen Vorgang kombiniert werden, und die gesamten Zykluszeiten werden entsprechend angepasst. Mit seinem modularen Aufbau lässt sich auch Werkzeugzubehör wie ein Pitch-Rotator schnell in das Gerät integrieren. Die Unity IIe verfügt über eine In-situ-Gasreinigungsmaschine zur Reduzierung von Gasfusions- und Wartungszyklen. Das Gerät ist voll kompatibel mit TEL Digital Controller für automatisierte Parameterausführung und Werkzeugüberwachung. Der Unity IIe wurde mit intelligenter Robotik entwickelt, um die Präzision während des gesamten Asset-Betriebs zu gewährleisten, mit seinem fünfachsigen Roboterstrahl, der für den Mehrfrequenzbetrieb für eine schnelle Waferübertragung über Kammern geeignet ist. Darüber hinaus verfügt es über ein Vision Alignment Model (VAS), um eine kritische Ausrichtungsgenauigkeit zu gewährleisten und eine automatisierte OCR- und OMS-Kennzeichnung zu erstellen. Das Basisdruckniveau des Gerätes ist ein beeindruckender 5 x 10-5 Torr und kann mit der Substratklemmvakuumtechnologie bis zu 10X erhöht werden. Es ist auch mit einer Hochleistungs-I/O-Schnittstelle ausgestattet, die einen effizienten Datenfluss zu und von einem Host-Computersystem ermöglicht. TOKYO ELECTRON UNITY IIE 855 II ist eine hochentwickelte Ätz-/Aschereinheit, die eine breite Palette von Fähigkeiten auf kleiner Fläche bietet. Es ist ideal für Halbleiteranwendungen, die eine hohe Genauigkeit beim Ätzen/Aschen erfordern, und kann bis zu 62 Wafer in einem einzigen Lauf aufnehmen. Es verfügt über fortschrittliche Robotik und sorgt für eine kritische Ausrichtungsgenauigkeit zusammen mit einer In-situ-Gasreinigungsmaschine, um Gasfusions- und Wartungszyklen zu reduzieren. Das Werkzeug ist sehr kompatibel mit TOKYO ELECTRON Digital Controller und ist ideal für eine Reihe von Anwendungen, wie Dünnschichtbeschichtung, dielektrische Ätzung und Substratmuster.
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