Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855SS #9177764 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9177764
Oxide etcher
SCCM
RF generator (power supply):
Top: Daihen AGA27AIA
Low pass filter: Daihen HFA-27B
Bottom: Daihen WGA-30A
Matcher:
Top matching box: DAIHEN AMN-30C9
2MHz cut filter: DAIHEN WFL-01A
BTM Matching box: DAIHEN WMN-30E
Matcher controller: DAIHEN CB-13A
Capacitance manometer:
Process monitor: MKS 627B-15405
Process monitor: MKS 33.3 Pa
Pressure control valve:
VAT 65046-PH52-AEP1
P/C Unit box:
Multi DC Power supply: SANKEN MLT-DCBOX5 HV-DC Supply: KYOSAN DC HV-PS AC Servo driver: YASKAWA SED-01 AP
Gas box MFC:
Gas1: C5F8/50 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas2: C4F6/50 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas3: CH2F2/50 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas4: O2/2020 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas5: O2/500 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas6: Ar/1000 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas7: CHF3/100 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas8: CF4/100 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas9: N2/500 sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Gas10: CO/1000 Sccm AERA FC-795CT-BF-TC
Back pressure MFC:
Edge: He/50 sccm AERA FC-780XC
Center: He/50 sccm AERA FC-780XC
Edge back pressure:
Capacitance manometer: MKS 622A12TBE
Capacitance manometer: MKS 13333.3 Pa
Pressure control valve: STEC SV-P003
Center back pressure:
Capacitance manometer: MKS 622A12TBE
Capacitance manometer: MKS 13333.3 Pa
Pressure control valve: STEC SY-P1203
BA Gauge ANELVA M430HG.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 855SS ist ein Ätzer/Ascher, der entworfen ist, um hochpräzise Musterung auf verschiedenen Arten von Materialien zu schaffen. Es verfügt über eine Hochvakuum-Ätz-/Stripping-Fähigkeiten mit Multi-Wafer-Verarbeitung. Dieser Ätzer/Ascher verfügt über eine Steuerungssoftware, die den gesamten Prozess des Ätzens/Aschens mit optimierter Präzision automatisiert. Die Ausbildung der Kammer gewährleistet auch eine hohe Sichtbarkeit der Waferoberflächen für den Bediener, wobei eine Partikelverunreinigung vermieden wird. TEL UNITYIIE-855 SS kann bis zu 8 Zoll Wafer mit einem Prozesskammervolumen von 400 Litern verarbeiten. Es verfügt über einen Zweifrequenz-HF-Generator und verfügt über eine automatisierte Parametereinstellung. Die Kammer nutzt auch eine niederenergetische Plasmaquelle für maximale Präzision bei der Strukturierung. Die Temperatur der Vakuumkammer kann für eine Vielzahl von Materialien, darunter Silizium und organische Substrate, von 5 bis 250 Grad Celsius reguliert werden. Es unterstützt auch mehrere Prozessgase, einschließlich Ar, O2,CF4 und CHF3. TOKYO ELECTRON UNITY IIE-855SS wurde entwickelt, um eine extrem hohe Durchsatzgeschwindigkeit zu erreichen und die Ätz-/Aschezykluszeit um die Hälfte zu reduzieren. Es verfügt über eine CCD-Kamera zur Prozessüberwachung sowie einen Gammastrahlensensor zur präzisen Messung der Effizienz der Partikelentfernung. Es hat auch ein Endpunkt-Erkennungssystem und Auto-Wafer-Transfer-Funktion für eine einfache automatisierte Bedienung. Benutzer können den Zustand des Ätzers/Ashers remote über Ethernet-Konnektivität überwachen. Dieses Gerät verfügt auch über ein eingebautes Sauberkeitskontrollsystem, das die Prozessumgebung überwacht, um keine Partikelverunreinigung zu gewährleisten. Es hat auch sowohl ein Online-und Offline-Rezept-System zu speichern und zurückrufen Ätz-/Ashing-Einstellungen jederzeit. UNITY IIE-855SS ist ein leistungsstarker Ätzer/Ascher zur präzisen Musterung verschiedener Materialien. Es bietet hochgenaue Ergebnisse mit extrem schnellen Verarbeitungsgeschwindigkeiten und ist somit eine ideale Ausrüstung für Industrie- und Forschungsanwendungen.
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