Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 85DD #143996 zu verkaufen

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ID: 143996
Dry etcher, 8" Process: Dry etch, DDA Plasma etching Software version: 3.60 Loading configuration: Single cassette / Single wafer Version: VER 3.40 - REV 206 - TIW - 3.50b (2) Ceramic electrostatic chuck hardwares (2) He cooling systems (2) Cassette load lock protection (2) ENI RF Generators (2) ENI Special automation matching networks NESLAB Dual high temperature chiller Optical wafer orientation system (2) Optimized chambers for 8" wafer processing (2) Mechanical robot arms with (2) blades (2) SEIKO SEIKI Turbo-molecular pumps Additional EMO for dry pump Maintenance controller (2) Direct pressure monitors Process configuration: Position / Description / Gases used Position 1: Cassette chamber 1: N2 Position 2: Cassette chamber 2: N2 Position 3: Transfer chamber 3: N2 Position 4: Process chamber 1: N2, O2, Ar, CF4, C4F6, C4F8, CHF3 Position 5: Process chamber 2: N2, O2, Ar, CF4, C4F6, C4F8, CHF3 Position 6: PA Chamber: N2 Currently warehoused AC 208 V, 50/60 Hz, 3-Ph, 225 A 1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 85DD ist ein Präzisionsplasma-Ätzer und Ascher mit fortschrittlichen Verfahren für Hersteller. Es ist mit einer lastgesperrten hochdichten Plasmaquelle ausgestattet, die eine schnelle Inbetriebnahme des Prozesses und stabile Ätz- und Ascheprozesse mit hohem Durchsatz ermöglicht. Der Ätzer/Ascher wird von der E-Pack-Rezeptplattform TEL angetrieben, die Prozessrezepte mit dem AUTO-TUNE-Dielektrikum und Auto-TUNE-Duschkopfprozessen für optimiertes dielektrisches Ätzen und verbesserte Transistorleistung integriert. TEL Unity IIe 85DD bietet eine Vielzahl von anpassbaren Ätz- und Ascheprozessen, einschließlich Trockenätzen, Trockenfreisetzung, Trockenplasmaätzen und Überätzen. Das Trockenätzverfahren ist ein Trockenätzverfahren mit einer Ätzrate von bis zu 0,2 nm pro Minute und eignet sich somit ideal für die Herstellung von Hochleistungstransistoren für DRAMs, Flash-Speicher und andere High-End-integrierte Schaltungen. Der Trockenabgabeprozess ermöglicht die Wafer-Level-Freisetzung von Maskierungsschichten durch die Verwendung von Plasmabedingungen, die die untere Schicht abbauen, während eine Rückdrückung auf die obere Schicht durchgeführt wird. Das Trockenplasmaätzverfahren erzeugt ultratiefwinklige Ätzprofile mit einem Seitenverhältnis von unter 3, während das Überätzverfahren ein hohes Quellleistungsprofil verwendet, um optimale Ätzprofile zu erzielen. TOKYO ELECTRON UNITY IIE 85 DD verwendet eine fortschrittliche Gasverteilungsausrüstung, um die in den Prozessen verwendeten Ätz- und Aschegase genau zu steuern und zu überwachen. Eine Kombination aus Duschkopf und lastgesperrten Plasmaquellen hoher Dichte sorgt für einen hochgleichmäßigen Ionenbeschuss über die Waferoberfläche, was zu einheitlichen Ätzprofilen bei höheren Abscheidungsraten und verbesserter Waferausbeute führt. TOKYO ELECTRON Unity IIe 85DD verfügt auch über ein erweitertes Closed Control Loop System, das kontinuierlich die Ätz- und Ascheprozessbedingungen überwacht und Rückmeldung an die Rezeptsteuereinheit für verbesserte Prozessgenauigkeit liefert. Darüber hinaus ist UNITY IIE 85 DD für einen sicheren Betrieb und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Der Ätzer/Ascher ist mit einem hochauflösenden 12-Zoll-Touchscreen-Bedienfeld sowie einer 3D-Tablett-Sichtbarkeit ausgestattet, um die Ergebnisse des Ätz- und Ascheprozesses leicht zu betrachten. Unity IIe 85DD umfasst eine umfassende Überwachungsmaschine, die den Prozess kontinuierlich überwacht, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten, wodurch die Betriebszeit verbessert und die Reinigungszeiten minimiert werden. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIE 85 DD ein zuverlässiger, vielseitiger Plasmaätzer und Ascher, der optimierte Hochdurchsatzprozesse für die Fertigungsindustrie bietet. Die zuverlässigen Ätz- und Ascheprozesse, das anpassbare Gasverteilungstool, der fortschrittliche Closed Control Loop Asset und die intuitive Benutzeroberfläche machen es zu einer idealen Wahl für kleine bis mittlere Fertigungsanwendungen.
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