Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Unity ME 85 DRM #293610374 zu verkaufen

TEL Unity ME 85 ist eine Ätz-/Ascheausrüstung, die entwickelt wurde, um Wafer mit einer Vielzahl von Substraten effektiv zu verarbeiten. Es ist eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Ätz-/Aschesysteme auf dem Markt mit einer Wafergröße von bis zu 10 Zoll. Das System ist mit einem Mehrkammer- und Mehrzonen-Metall-Oxid-Halbleiter (MOS) Ätzer/Ascher ausgestattet, so dass eine Steuerung möglich ist, die mit anderen Arten von Systemen unerreichbar ist. Das Gerät verfügt zudem über eine erweiterte Diffusions- und Abscheidekammer, die eine präzise Steuerung des Ätz-/Ascheprozesses ermöglicht und eine schnelle, gleichmäßige Bearbeitung der Wafer ermöglicht. Zusätzlich ist TOKYO ELECTRON Unity ME 85 mit einem automatischen Waferlader ausgestattet, der ein schnelles und effizientes Be- und Entladen der Maschine ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON Unity ME 85 verwendet ein fortgeschrittenes Plasma-Impedanzkontrollwerkzeug (PIC), das eine präzisere Kontrolle über das Plasma liefert, was zu einer einheitlichen Ätz-/Aschebearbeitung führt. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein verbessertes Kühlmodell, um die Wafertemperaturschwankungen zu minimieren und präzise und wiederholbare Prozesse zu ermöglichen. Diese Ätz-/Ascheausrüstung bietet auch konfigurierbare Rezepte mit PC-GUI, um Prozesse schnell an bestimmte Anforderungen anzupassen und verfügt über ein mehrkanaliges thermisches Limit-System, um eine präzise Temperaturregelung und Konsistenz zu gewährleisten. Neben der präzisen Steuerung und Genauigkeit im Ätz-/Ascheprozess verfügt TEL Unity ME 85 auch über einen hohen Durchsatz, der es ermöglicht, bis zu fünf Wafer pro Minute zu verarbeiten. Damit eignet sich das Gerät ideal für großvolumige Ätz-/Ascheanwendungen, da es Zykluszeiten für maximalen Durchsatz und Produktivität verkürzt. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Unity ME 85 eine fortschrittliche Ätz-/Aschemaschine, die präzise Steuerung, einheitliche Verarbeitung und hohen Durchsatz kombiniert, was es zu einem attraktiven Werkzeug für alle Halbleiteranwendungen macht, insbesondere für diejenigen, die eine schnelle, einheitliche Ätz-/Aschebearbeitung erfordern.