Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Vesta #9315096 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Vesta ist eine Hochleistungs-Ätzmaschine (oder Ascher) für die Halbleiterindustrie. Es verwendet eine Kombination aus Plasmaätz- und Bindungstechnologie, um präzise und wiederholbare Merkmale auf den Oberflächen von Siliziumscheiben und anderen Substraten zu schaffen. Die Maschine besteht aus einer Basis-, Plasmaätzkammer und Verbindungsstation sowie zusätzlichen Komponenten zur thermischen Steuerung, Kühlung und zusätzlichen Sicherheit. Die Plasmaätzkammer beherbergt die reaktiven Materialien, typischerweise eine Teflonanode und eine beheizte Kathode. In der Kammer wird Plasma erzeugt, das ein kontrolliertes Ätzen des Substrats ermöglicht. Die Kammer ist mit einer Gassteuerung verbunden, die die für den Betrieb der Kammer erforderliche Einleitung von Reaktivgasen ermöglicht. Die Klebestation ermöglicht das Verbinden von separaten Bauteilen durch Drahtbonden, was für eine höhere strukturelle Integrität des Fertigprodukts sorgt. Im gesamten System befinden sich Temperatursensoren, die eine genaue Temperaturregelung der Kammer und der Werkstücke ermöglichen. TEL Vesta ist für den Betrieb in einer Vakuumumgebung konzipiert und bietet die konsistenteste und genaueste Ätzung. Dies ermöglicht eine bessere Kontrolle über Ätzraten und Profile sowie einen höheren Grad an Kantendefinition und Wiederholbarkeit. Mit fortschrittlichen Bewegungssteuerungen kann die Maschine Funktionen mit einer Breite von bis zu 6 Millionstel Zoll genau ätzen. Die Maschine ist auch mit Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie einem Satz von Gassensoren und Druckbegrenzungsventilen, die Bedienungspersonen schützen und Schäden durch Überdruckbeaufschlagung der Kammer verhindern. Die Maschine ist vollständig in einem großen Metallrahmen eingeschlossen, so dass der maximale Schutz während des Betriebs möglich ist. TOKYO ELECTRON Vesta ist ein hochmodernes Ätz- und Bondsystem mit zuverlässigem Betrieb und konsistenten Ergebnissen. Mit seinen fortschrittlichen Steuerungs- und Sicherheitsmerkmalen eignet es sich gut für die Herstellung hochwertiger Eigenschaften auf Siliziumscheiben und anderen Substraten in der Halbleiterindustrie.