Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Vigus harc #9244885 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Vigus harc ist ein Ätzer oder Ascher, der für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Die Anlage basiert auf Mikrowellen-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) und wird verwendet, um dünne Filme aus Silizium, Germanium und anderen Materialien auf Wafern in Form einer Oxid-, Nitrid- oder Metallschicht abzuscheiden. Der Ätzer weist eine Plasmaquelle auf, die aus einer niederdruckkapazitiv gekoppelten HF-Entladungszelle besteht. Das System ist mit einem Multi-Mode-Netzteil ausgestattet, das ein Ätzen mit einer Vielzahl von Plasmagasen wie Sauerstoff, Tetrafluormethan, CF4, Chlor und Stickstoff sowie Kombinationen dieser Gase ermöglicht. Die Ätzkammer ist mit einer chemisch widerstandsfähigen Innenwand und einer hermetisch abgedichteten Vakuumeinheit ausgestattet. Zur Minimierung der Ätzprozesstemperatur ist an die Kammer eine spezielle Heizeinheit angeschlossen, die eine Optimierung der Ätzergebnisse ermöglicht. TEL Vigus Harc Ätzer ist angepasst, um Wafer unterschiedlicher Größe von zwei bis zwölf Zoll Durchmesser zu akzeptieren. Die Maschine ist einfach zu bedienen und enthält eine Bedienkonsole mit einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI), um auf alle Werkzeugeinstellungen zuzugreifen, wodurch Prozessrezepte bequem zu programmieren und zu ändern sind. Der Ätzer ist auch so konzipiert, dass er sehr zuverlässig ist und die geforderten Industriestandards für Sicherheit und Produktqualität erfüllt. Sein erweitertes Monitoring-Asset ist in der Lage, Probleme schnell zu erkennen und den Betreiber zu warnen, falls Anomalien auftreten. Das Bordkommunikationsmodell ist auch in der Lage, schnell Benachrichtigungen an andere angeschlossene Geräte und Systeme zu senden, was eine bessere Prozessüberwachung und -steuerung ermöglicht. Abschließend ist der TOKYO ELECTRON Vigus harc Ätzer eine zuverlässige und flexible Ätzlösung mit verbesserter Sicherheit und Produktqualität. Seine fortschrittlichen Plasmaquellen und Verarbeitungsmöglichkeiten machen es zu einem idealen Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse.