Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Vigus #9270936 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Vigus ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der in der Halbleiterindustrie zum Präzisionsätzen, Formen und Strukturieren von Silizium und anderen Materialien verwendet wird. Diese Hightech-Ausrüstung basiert auf mehreren Schlüsseltechnologien, die es ermöglichen, überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu bieten. Der fortschrittliche Ätzprozess umfasst eine Regeleinrichtung, die geätzte Abmessungen genau überwacht und anpasst. TEL Vigus bietet eine vielseitige Ätzkammer und Substratstufen-Baugruppe, die es ermöglicht, komplexe Merkmale wie Durchgangslöcher, BGA-Deckel und dicke Bauteile zu strukturieren und zu ätzen. Diese Fähigkeit, präzise Merkmale genau zu ätzen, ermöglicht es Herstellern, Prozessvariabilität und Ertragsverluste deutlich zu reduzieren. Zusätzlich reduziert die fortschrittliche Optik von TOKYO ELECTRON Vigus Ätznebenprodukte durch Reduzierung der Strahlbelichtung. Vigus ist mit zwei Gaszufuhrsystemen ausgestattet, die verschiedene Gase zum Ätzen und zur Seitenwandabdeckung liefern. Dieses System ermöglicht es, den Ätzschritt ohne Unterbrechung durchzuführen, die Reaktionszeit zu reduzieren und die Gleichmäßigkeit des Ätzmusters zu optimieren. Dieser Ätzer kann auch mehrere Scan-Modi ausgeben, um eine präzise Steuerung der Ätzgeschwindigkeit über eine breite Palette von Parametern zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet TEL/TOKYO ELECTRON Vigus kapazitiv gekoppelte Plasma (CCPMA) -Technologie, die die Ätzleistung unabhängig von der Art des verwendeten Wafermaterials einstellt. TEL Vigus ist auch auf Sicherheit und Stabilität ausgelegt. Die fortschrittliche Steuereinheit verfügt über eine selbstdiagnostische Maschine, die auf Verfahrensfehler überprüft, um mögliche Werkzeugschäden zu vermeiden. Zudem sorgt eine integrierte Sicherheitseinrichtung dafür, dass der Ätzer auch bei leichten Änderungen immer innerhalb der zugeordneten Parameter bleibt. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Vigus ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der eine breite Palette von Funktionen und Funktionen für die Halbleiterproduktion bietet. Seine fortschrittliche Ätztechnologie bietet eine präzise Steuerung des Ätzprozesses, während sein Doppelgasmodell Reaktions- und Ätzzeit reduziert. Und die integrierten Sicherheitssysteme sorgen dafür, dass die Ausrüstung in den anspruchsvollsten Halbleiterproduktionsumgebungen stabil und zuverlässig bleibt.