Gebraucht TOK TCA-3400 #9142656 zu verkaufen

TOK TCA-3400 ist eine automatische Ätz- und Aschevorrichtung, die für die präzise Entfernung von Material von einer Vielzahl von mikroelektronischen Substraten entwickelt wurde. Dieses hochmoderne System verfügt über die neueste Technologie für Ätz- und Ascheprozesse. TCA-3400 ist in der Lage, eine breite Palette von Ätz- und Ascheprozessen auf Substraten bis zu 8 „x8“ Größe durchzuführen. Das Gerät verfügt über eine hochgenaue Temperaturregelung und eine präzise Fluenzregelung, die wiederholbare Ergebnisse mit hoher Präzision gewährleistet. Es bietet auch Funktionen wie: Temperaturregelung, Hochgeschwindigkeitsbetrieb, verschmutzungsfreie Kammerdesign, Proben- und Substratkühlsysteme und eine große Auswahl an Ätz- und Aschechemien. TOK TCA-3400 ist mit zwei unabhängigen Prozesskammern ausgelegt, einer zum Ätzen und einer zum Aschen. Beide Kammern sind mit schnell wirkenden Heizelementen ausgestattet, die eine schnelle Temperaturregelung und hohe Prozessgenauigkeit gewährleisten. Auch diese Kammern sind vor Verschmutzung geschützt, so dass die Prozessbedingungen konsistent und sauber bleiben. Die Ätzkammer ist für mehrere unterschiedliche Ätzchemien ausgelegt. Diese Maschine unterstützt induktiv gekoppelte Plasma- (ICP) und reaktive Ionenätzverfahren (RIE). Beide Prozesschemien verwenden kühles Plasma, das ein Ätzen mit minimaler Substratverzerrung ermöglicht. Das RIE-Verfahren ermöglicht eine präzise Tiefenkontrolle und höhere Ätzraten als das herkömmlichere Nassätzverfahren. Die Waschkammer ist in der Lage, nasse und trockene Aschtechniken zu verwenden. Die Naßwaschtechnik verwendet eine hochreaktive Ätzlösung, die die Oberfläche des Substrats oxidiert und einen dünnen Film hinterlässt. Dieser dünne Film schützt vor weiterem Ätzen oder Abscheiden. Die Trockenaschtechnik ist wirksam bei der Entfernung von Rückständen aus empfindlichen Substraten und kann verwendet werden, um komplizierte Muster oder Nanostrukturen zu erstellen. TCA-3400 ist ideal für Materialien wie Silizium, GaAs und verschiedene Polymere. Das Tool bietet eine benutzerfreundliche Oberfläche und kann einfach für kundenspezifische Ätz- und Ascheprozesse programmiert werden. Mit diesem Asset können Anwender auch bei Anwendungen mit hohem Durchsatz wiederholbare und präzise Ergebnisse erwarten.