Gebraucht TRION Orion III #293800217 zu verkaufen

TRION Phantom LT ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascher-Ausrüstung, die für hohe Leistung und Vielseitigkeit in Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Dieses hochmoderne Tool umfasst innovative Technologien, um eine präzise und einheitliche Plasmabearbeitung für eine Vielzahl von Anwendungen zu ermöglichen, einschließlich Ätz-, Asche-, Entkeimungs- und Foto-Resist-Stripping. Eines der Hauptmerkmale von Phantom LT ist seine vielfältigen Prozessfähigkeiten, die die Anpassung verschiedener Plasmaprozesse an spezifische Anforderungen ermöglichen. Das System ist mit einer hochfrequenten HF-Stromquelle und einer Reihe von Gaseinspritzoptionen ausgestattet, so dass Benutzer Parameter wie Druck, Gasdurchflussraten und Leistungsstufen für eine optimale Prozessleistung steuern können. Darüber hinaus verfügt das Gerät über erweiterte Endpunkterkennungsfunktionen, um eine genaue Prozesskontrolle und Endpunktbestimmung sicherzustellen. TRION Phantom LT verfügt über ein duales Gasleitungsdesign, das eine unabhängige Steuerung von zwei Prozessgasen ermöglicht und die Durchführung komplexer Prozesse mit unterschiedlichen Gaschemien ermöglicht. Diese Flexibilität macht die Maschine für ein breites Anwendungsspektrum von der Ätzung von Siliziumdioxid und Siliziumnitrid bis hin zum Abisolieren von Photoresist- und Reinigungssubstratoberflächen gut geeignet. Die Werkzeugkammer ist aus hochwertigem Aluminium gefertigt und soll eine gleichmäßige Plasmaverteilung über die gesamte Oberfläche des Wafers ermöglichen. Dies gewährleistet konsistente Verarbeitungsergebnisse und minimiert das Risiko ungleichmäßiger Ätz- oder Aschereffekte. Zur Optimierung der Prozessstabilität und Wiederholbarkeit ist die Kammer mit Temperaturregelungsmerkmalen ausgestattet. Phantom LT verfügt über eine fortschrittliche Plasmaerzeugungstechnologie, die hochdichte Plasmaquellen verwendet, um eine effiziente und gleichmäßige Verarbeitung zu erreichen. Dies ermöglicht eine schnelle und effektive Entfernung organischer und anorganischer Materialien von Halbleitersubstraten, was zu qualitativ hochwertigen Ätz- und Strippergebnissen führt. Die Anlage ist zudem mit einem dynamischen Gaseinspritzmodell ausgestattet, das die Prozesssteuerung verbessert und eine präzise Abstimmung der Prozessparameter auf optimale Ergebnisse ermöglicht. Die benutzerfreundliche Oberfläche und die intuitive Software machen die Bedienung und Prozessüberwachung einfach und effizient. Die Software bietet die Visualisierung von Prozessdaten in Echtzeit, sodass Benutzer wichtige Parameter wie Druck, Temperatur, Leistung und Gasflussraten überwachen können. Darüber hinaus ermöglicht die Rezeptverwaltungsfunktion des Systems eine einfache Prozessoptimierung und -kontrolle, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Abschließend ist TRION Phantom LT eine hochmoderne Ätz-/Ascher-Einheit, die eine beispiellose Leistung und Flexibilität für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seinen fortschrittlichen Plasmabearbeitungsfähigkeiten, präzisen Steuerungsfunktionen und der benutzerfreundlichen Oberfläche ist die Maschine ideal für eine Vielzahl von Prozessen, von Ätzen und Strippen bis hin zu Reinigung und Oberflächenmodifizierung. Ob in Forschung und Entwicklung oder in Serienumgebungen, Phantom LT liefert zuverlässige und qualitativ hochwertige Ergebnisse und ist damit ein wertvolles Werkzeug für die Halbleiterherstellung.