Gebraucht TRION Phantom II #9069756 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9069756
RIE Etch System
Chiller: LYTRON RC022J03BG2
Vacuum pump: ALCATEL TY 2033
(4) MFC's: UFC 8100
Gases used: O, CHF4, N, CCF4, Ar.
TRION Phantom II ist ein leistungsstarker Ätzer/Ascher, der eine präzise und effiziente Wafer- oder Gerätebearbeitung ermöglicht. Dieser leistungsstarke Ätzer/Ascher nutzt hochdichte Plasmen mit Hintergrundgasen, um kontrollierte Ätzprofile zu erzeugen. Unter Verwendung von Quellgasen aus Chlor, Fluor und Sauerstoff kann diese Ausrüstung verwendet werden, um vertikale Wände und präzise Oberflächenätzungen in einer Vielzahl von Anwendungen wie mikroelektronische Verpackungen, Hochtechnologie-Teile, mems/nano und verwandte Geräte zu erstellen. Phantom II verwendet ein integriertes dreiachsiges Roboter-Linearmotorsystem mit fortschrittlicher dreidimensionaler Bewegungssteuerung zur Automatisierung des Ätzens. Dieses Gerät bietet maximale Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit von vereinzelten Wafern bis hin zu langen Waferläufen. Die robuste Robotermaschine hat eine Schrittgenauigkeit von +/-0,5 mm sowie eine hohe Beschleunigung und Verzögerung. Um die Produktivität des Werkzeugs zu steigern, verfügt TRION Phantom II über eine Waferfähigkeit zur Messung von bis zu 20 Zoll Durchmesser. Es kann bis zu acht Prozessmodule enthalten, die sowohl extern als auch intern angeordnet sind und eine doppelseitige Verarbeitung mit bis zu sechs Prozessmodulen in der Prozesskammer und zwei externen Modulen ermöglichen. Die Anlage verfügt außerdem über eine effiziente Gassteuerungstechnologie, mit der mehrere Ätzrezepte oder -prozesse für einfache und wiederholbare Waferprozesszyklen gespeichert und zurückgerufen werden können. Die On-Board-Software-Steuerung ermöglicht eine Echtzeit-Anpassung der Rezepturparameter während des Prozesses, was eine Feinabstimmung der Ätzeigenschaften für bestimmte Produktdesigns ermöglicht. Die Sicherheit der Anwender wird mit einem globalen Abgasfiltrationsmodell berücksichtigt, das die Partikelerzeugung und -emissionen minimieren soll. Das Gerät verfügt über ein integriertes Lecksuchsystem, das die geringsten Gaskonzentrationen im Gehäuse erkennen kann. Das Vorhandensein der Softwareeinheit ermöglicht nicht nur Schritte zur Prozessautomatisierung, sondern bietet auch eine Vielzahl von Tools zur Datenerfassung, die Informationen wie Echtzeit-Wafer-Zustand, Ätzgeschwindigkeit und Betttemperatur liefern. Dies vermittelt dem Anwender ein tieferes Verständnis der Parameter während des Prozesses und hilft, die Produktionszeit zu verkürzen. Phantom II ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher, der eine präzise und effiziente Waferbearbeitung ermöglicht. Mit einer dreiachsigen Roboter-Bewegungssteuerungsmaschine mit Schrittgenauigkeit verfügt dieses Werkzeug auch über eine effiziente Gassteuerungsanlage, eine Wafer-Handhabungsfähigkeit von bis zu 20 Zoll Durchmesser und Sicherheitsmerkmale wie integrierte Abgasfilter- und Lecksuchsysteme. Mit seinen Datenerfassungsfunktionen kann das Modell Anwendern ein tieferes Verständnis des Ätzprozesses vermitteln, das dazu beitragen kann, die Produktionszeit zu verkürzen und verbesserte Ergebnisse zu erzielen.
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