Gebraucht TRION Phantom III #189297 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 189297
Weinlese: 2006
Plasma Etcher
Includes:
SMC HRG002-A-X047 Thermo cooler
PFEIFFER / BALZERS TCP 310 power supply
200/220V, 50/60Hz
2006 vintage.
TRION Phantom III ist ein Ätzer und Ascher, der eine präzise und effiziente Materialbearbeitung ermöglicht. Es eignet sich für Anwendungen in einer Vielzahl von Bereichen, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Herstellung von Dünnschichtstrukturen und der Herstellung von Präzisionskomponenten. Das Gerät hat eine maximale Wafergröße von 8 Zoll und ist in der Lage, mit einer Vielzahl von Gasen zu ätzen. Die integrierte Diagnose ermöglicht eine einfache Fehlerbehebung und Wartung, während das fortschrittliche Kontrollsystem der Anlage Prozessstabilität und Wiederholbarkeit garantiert. Phantom III wird unter Verwendung einer Komponentenarchitektur aufgebaut; Auf diese Weise kann der Benutzer Komponenten für bestimmte Anwendungen installieren, z. B. für die Verarbeitung einzelner Wafer oder für die Stapelverarbeitung. Das Ätzen und Aschen erfolgt in horizontaler oder vertikaler Ausrichtung, was höhere Produktionsraten und präzisere Ergebnisse ermöglicht. Zu den spezifischen Komponenten gehören korrosionsbeständige Legierungen, Quarzrohre und Anoden, Titan-basiertes Material zur Anodenabscheidung sowie verschiedene Isolatoren und Kondensatoren. Das Gerät ist mit einem Remote-Touchscreen ausgestattet, der eine Echtzeit-Überwachung der Ätz- und Ascheprozesse ermöglicht. Diese Überwachung umfasst Temperatur, Druck und Ätzzeit. Es ermöglicht auch die Einstellung der Leistungseinstellungen, des Plasmagasdrucks und der Prozessvariablen für höhere Präzision. Die Ätzrate von TRION Phantom III beträgt etwa eine Ätzung pro Durchgang. Zu den weiteren Merkmalen der Maschine gehören Ätzpartikelextraktionssysteme, die helfen, schädliche Partikel aus der Ätzkammer zu entfernen, und Prozesszeitoptimierung, die unerwünschte Ätzzeit reduziert. Die Plasmaquelle kann auch zur Modifizierung der Ätzkinetik verwendet werden, was die Gleichmäßigkeit der geätzten Oberfläche verbessert. Phantom III ist relativ wartungsfrei konzipiert, wobei die meisten Komponenten im Haus austauschbar oder reparierbar sind. Es ist auch für den Einsatz in Verbindung mit anderen Standardverarbeitungsgeräten wie Lastschlössern, Förderern und Vakuumfiltergeräten konzipiert. Abschließend ist TRION Phantom III ein äußerst zuverlässiger und effizienter Ätzer und Ascher, der für präzise und schwierige Anwendungen geeignet ist. Es bietet eine Reihe von erweiterten Funktionen, wie Fernüberwachung und Prozessoptimierung, sowie konventionellere Ätz- und Aschefunktionen. Dies macht es ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Sektoren, einschließlich Halbleiterherstellung, Dünnschichtstrukturherstellung und Präzisionskomponentenherstellung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor