Gebraucht TRION Phantom III #9039842 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9039842
RIE / ICP System, parts machine
Bottom electrode: 8”
Vacuum port: 6"
System controller: Pentium computer, touch screen
(4) Mass flow controller gas channels
Automatic pressure control
Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz
Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 600 watt 13.56 MHz RF generator
Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC
Electrostatic chuck: 6", He backside cooling
Emergency on/off with AC power distribution box
Components:
High vacuum Pump: Osaka TG1003BW Osaka TC1003 controller
Backing mechanical pump: none
High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve
Chamber pressure transducer: MKS 627
RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM
RF2 Generator: Comdel CX-600AS, RF2 automatch = Trion OEM
Heat exchanger: none
Chuck heat exchanger: Julabo LH85
Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS300
Gas Controls:
Separate exhausted cabinet for gas mixing
He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He
Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CF4
Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with O2
Gas 3 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with SF6
Gas 4 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with N2
Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CHF3
Parts missing:
PC board
Ion Gauge
Mechanical backing pump
Touch screen dead, replaced with standard PC monitor & keyboard.
TRION Phantom III ist ein Ätzer/Ascher, der speziell für die Herstellung von hochpräzisen mikroelektronischen Strukturen entwickelt wurde. Es ist ein Marktführer in seiner Klasse und bietet hohe Leistung, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Das Gerät ist auf hohe Produktivität ausgelegt, so dass Anwender komplexe mikroelektronische Strukturen schnell und effizient herstellen können. Das System ist das perfekte Werkzeug zum Ätzen und Aschen von Materialien wie Polysilizium, Siliziumdioxid, Zinnoxid, GaAs und anderen Materialien, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Phantom III verfügt über ein robustes und langlebiges Design, das rauen Produktionsumgebungen standhält. Es verfügt über eine automatisierte Ladekammer, die bis zu 19 Wafer gleichzeitig verarbeiten kann. TRION Phantom III ist in der Lage, 25 μ m Strukturen mit einer Präzision von 5 μ m zu verarbeiten, und seine Einheitlichkeit ist im Markt unerreicht. Dies ist möglich durch die fortschrittliche Präzisionssteuerung, die mit einer integrierten Zwischenlagesteuerungsmaschine eine präzise Ausrichtung bei Ätz- und Ascheprozessen aufrechterhält. Phantom III verfügt auch über erweiterte Prozesskontrollfunktionen, so dass Benutzer Ätz- und Ascheprozesse genau überwachen und anpassen können, um eine hervorragende Präzision zu gewährleisten. Dies beinhaltet eine Rückkopplungsregelung für Leistung, Temperatur und Zeit, mit der Benutzer Parameter leicht anpassen können, um gewünschte Ergebnisse zu erzielen. Das Tool ist auch in der Lage, On-Wafer-Prozessdaten zu analysieren, um weitere Optimierung und Zuverlässigkeit zu erleichtern. Die fortschrittliche optische Komponente von TRION Phantom III ist in der Lage, den Zustand von Wafern während des gesamten Ätz- und Ascheprozesses effizient und präzise zu erkennen und zu überwachen. Das Modell ist mit einer hochpräzisen Strahlablenkvorrichtung integriert, die in der Lage ist, den Strahl auf einem einzigen Punkt für Präzisionsätzen/-aschen bei hoher Geschwindigkeit zu fokussieren. Phantom III ist ein kostengünstiger Ätzer/Ascher, der hervorragende Leistung und Genauigkeit bietet. Das benutzerfreundliche Design und die robuste Hardware machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für jedes mikroelektronische Labor. Mit seinen leistungsstarken Prozesssteuerungsfunktionen ist es in der Lage, konsistente Ätz- und Ascheprozesse zu gewährleisten, die unglaublich präzise und zuverlässig sind.
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