Gebraucht TRION Phantom III #9039844 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9039844
RIE / ICP System
Bottom electrode: 8”
Vacuum port: 6"
System controller: Pentium computer, touch screen
(6) Mass flow controller gas channels
Automatic pressure control
Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz
Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 1250 watt 13.56 MHz RF generator
Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC
Electrostatic chuck: 6", He backside cooling
Emergency on/off with AC power distribution box
Components:
High vacuum Pump: Osaka TG1003BW and Osaka TC1003 controller
Backing mechanical pump: none
High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve
Chamber pressure transducer: MKS 627
RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM
RF2 Generator: Comdel CX-1250S, RF2 automatch = Trion OEM
Heat exchanger: none
Chuck heat exchanger: Julabo LH85
Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS200
Gas Controls:
Separate exhausted cabinet for gas mixing
He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He
Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CF4
Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with O2
Gas 3 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with Ar
Gas 4 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with SF6
Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CHF3
Gas 6 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with C4F8.
TRION Phantom III ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher, der für automatisierten hohen Durchsatz, Präzision und konsistente Ergebnisse konzipiert ist. Es ist ein wichtiges Werkzeug für Forschungs- und Entwicklungsgießereien, die eine schnelle und präzise Verarbeitung erfordern, um komplexe Formen und Merkmale im industriellen Maßstab herzustellen. Phantom III verwendet eine Dual-fokussierte Ionenstrahl (FIB) -Ausrüstung, die zwei Arten von Ionenstrahlen verwendet - einen zum Ätzen und einen zum Abscheiden - für die gleichzeitige Verarbeitung derselben Probe. Dies ermöglicht schnellere Bearbeitungszeiten und erhöhte Genauigkeit. Der Dual fokussierte Ionenstrahl bietet auch die Vorteile einer höheren Strahlstromstabilität, einer gleichzeitigen Ionenstrahlenergie- und Punktgrößenanpassung und einer breiteren Palette von Prozessparametern. TRION Phantom III ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafern zu handhaben, von denen konventionell mit E-Beam verarbeitet, bis zu denen, die Ionenstrahlätzen und Aschen erfordern. Mit einem hohen Seitenverhältnis von bis zu 100:1, einer nahtlosen Transformation von Feature zu Feature und einer schnellen, zuverlässigen Verarbeitung ist Phantom III ein vielseitiges und leistungsstarkes Ätzwerkzeug. TRION Phantom III Ätzer/Ascher ist auch mit anderen Funktionen ausgestattet, wie einem In-situ-Heizsystem, einem Anti-Rückstoß-Mechanismus und Prozessparametern, die schnelle Prozessänderungen in einer kontrollierten Umgebung ermöglichen. Darüber hinaus kann das Gerät mit maßgeschneiderten Ätzrezepten programmiert werden, wodurch die Ätzergebnisse vollständig angepasst werden können. Phantom III verfügt auch über eine Echtzeit-Prozessüberwachungsmaschine, mit der Benutzer den Prozess in Echtzeit überwachen können, um Konformität und Genauigkeit sicherzustellen. Das Tool ermöglicht auch den direkten Zugriff auf Prozessdaten und die statistische Prozesssteuerung (SPC). TRION Phantom III verfügt in Verbindung mit seinen breiten Fähigkeiten über integrierte Sicherheitsmerkmale. Zentral für diese Merkmale ist der aktive Sputterschutz, der Schutz vor Probenkontamination und Prozessunregelmäßigkeiten bietet. Abschließend ist Phantom III ein anspruchsvoller Ätzer/Ascher, der auf automatisierten hohen Durchsatz, Präzision und konsistente Ergebnisse ausgelegt ist. Es verwendet ein Dual-fokussiertes Ionenstrahl-Modell, ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafern zu handhaben, und umfasst Sicherheitsfunktionen wie eine aktive Sputterschutzausrüstung. TRION Phantom III ist mit seinen robusten Eigenschaften und seiner Anpassungsfähigkeit ein hervorragendes Werkzeug für die Gießereien in Forschung und Entwicklung.
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