Gebraucht TRION Phantom III #9167672 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9167672
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2008
Reactive ion etcher (RIE), 8"
ICP System
(4) On board mass flow controllers
Gases:
Ar
O2
CF4
N2
CHF3
Utilizes:
Surface mount
C-Seal technology
Orbital welded VCR fittings
Pump: Vacuum pump, chiller
Temperature controlled chiller
(2) RF Generators 600, 13.56 MHz
Automatic matching network
Software: Trion
2008 vintage.
TRION Phantom III ist ein vielseitiger, leistungsstarker Ätzer und Ascher für eine Vielzahl von Halbleitersubstraten. Es ist in der Lage, alle für die Herstellung fortgeschrittener mikroelektronischer Geräte erforderlichen Ätz- und Ascheschritte durchzuführen. Zu den Hauptmerkmalen und Fähigkeiten von Phantom III gehören: Hochgeschwindigkeitsätzleistung und partikelarme Erzeugung zur Herstellung ultrakleiner Geräteeigenschaften. Fähigkeit zum Ätzen und Aschen in der gleichen Kammer mit dem gleichen Verfahren. Hochpräzise Wafer-Standortkontrollausrüstung und verbesserte Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Wiederholbarkeit. Geschlossene Plasmaabstimmung und Steuerung zur Steuerung der Ätzrate. Automatisierter AutoFill-Prozess für schnelleren Waferwechsel und verbesserten Durchsatz. Fortgeschrittene Ätztechniken zur Herstellung von Nanometern und zur Herstellung von Mikrofeaturen. Loadlock-System mit mehreren Rotorkonfigurationen zur Stapelverarbeitung. Kontinuierliche Trockenpumpeneinheit für verbesserte Sicherheit bei der Durchführung von Ätz- und Ascheprozessen. Hochpräzise Mehrprozessscheibe und Stanzmaschine sorgt für eine präzise Ausrichtung der Teile. In der Lage, Auflösung auf Millisekundenebene bei der Musterbildung zu erzeugen. Fähigkeit, Ätztiefe zu messen und Ätzergebnisse in Echtzeit auszuwerten. Vollautomatisches Betriebs- und Wartungsprogramm, um Produktivität und Qualität zu gewährleisten. Flexibles Softwarepaket mit sicherer Datenzugriffskontrolle, Fehlerverfolgung und Echtzeit-Prozessüberwachung und -kontrolle. Komplettes Fehlererkennungs- und Diagnosetool zur Gewährleistung von Zuverlässigkeit und Sicherheit. Asset ausgestattet mit einem automatisierten Wafer-Handling und Aufräummodell, um Zeit und Arbeit zu sparen. Vollständig konfigurierbar für spezifische Prozessanforderungen. TRION Phantom III bietet verbesserte Leistung bei geringeren Lebenszeitkosten und ermöglicht nachweislich signifikante Zyklus- und Durchsatzverbesserungen. Phantom III wurde speziell entwickelt, um einen robusten, zuverlässigen und kostengünstigen Ätz- und Ascheprozess für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte bereitzustellen.
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