Gebraucht ULVAC NA1000 #9150936 zu verkaufen

ULVAC NA1000 ist ein Ätzer/Ascher, der speziell auf die Anforderungen einer hochgenauen Lithographieverarbeitung zugeschnitten ist. Das Gerät ist durch seine eng regulierten mechanischen und elektrischen Rückkopplungsmechanismen in der Lage, mit minimalen Aberrationen zu ätzen und zu aschen. Der Ätzer/Ascher verwendet eine fortschrittliche Ionenstrahl-Plasmaquelle, um genau ein hochdichtes Plasma zu erzeugen, das einen Ionenstrahl mit einem präzisen Energieniveau erzeugen kann und einen hochauflösenden Strukturierungsprozess ermöglicht. NA1000 ist mit einem automatischen Strahl-Koaxialkompensationsmonitor (ABCMTM) ausgestattet, der sich ständig auf Fehler während der Verarbeitung einstellt und eine präzise Strukturierung gewährleistet. Die Maschine ist auch mit einem variablen Fokuslinsensystem ausgestattet, um die Strahlgröße der mehrstufigen Ionen gleichmäßig einzustellen. Dies macht es ideal für Ätz- und Ascheprozesse mit gekrümmten Oberflächen. Darüber hinaus bietet ULVAC NA1000 einen Hochleistungs-Antriebslaser, der bis zu 550 Watt bei einer Pulswiederholfrequenz von 300kHz ausgeben kann, was eine hervorragende Strahlgleichförmigkeit und Energieantwort für einen ultrahohen Leistungs-Ätz-/Ascheprozess bietet. NA1000 ist für Reinraumanwendungen konzipiert und verfügt über eine geschlossene Arbeitskammer, um einen ultrasauberen Betrieb zu gewährleisten. Das Gerät ist auch mit einer Vakuumpumpe ausgestattet, um einen niedrigen Vakuumdruck aufrechtzuerhalten und das Risiko einer Kontamination des Prozesses zu verringern. Die Maschine ist in der Lage, Wafer Prozesstemperaturen von -80 ° C bis 700 ° C, so dass es für eine Vielzahl von Prozessen geeignet. Der Ätzer/Ascher ist kompatibel mit Quarz- und Polyimid-Speicherkarten und wird mit einer Reihe von optionalem Zubehör geliefert, einschließlich eines Roboter-Wafer-Handhabungsarms für die Positionierung und das Be- und Entladen von Wafern. Insgesamt ist ULVAC NA1000 Ätzer/Ascher eine hochentwickelte Präzisionsmaschine, die optimale Ergebnisse für Lithographieprozesse liefert. Die überlegenen mechanischen und elektrischen Rückkopplungsmechanismen, die Linse mit variablem Fokus und der Hochleistungslaser sorgen für eine konsistente, präzise Strukturierung in einer sicheren Reinraumumgebung.