Gebraucht ULVAC NE-950EXk #9204281 zu verkaufen

ULVAC NE-950EXk Etcher/Asher ist eine hochpräzise Ätz- und Ascheausrüstung, die qualitativ hochwertige Ätz- und Ascheprozesse herstellen kann. Mit seinem hochpräzisen Druckregelsystem und der einzigartigen Ätztechnologie ULVAC können NE-950EXk Filme mit sehr gleichmäßigen Ätztiefen und engen Linienbreiten herstellen. ULVAC NE-950EXk ist ein Ätzer/Ascher, der eine Reihe chemischer Prozesse und physikalischer Techniken zum Ätzen oder Aschen von Materialien verwendet. Die Einheit umfasst ein Plasmaätzmodul zum Abscheiden von Ätzmasken und ein Sputtermodul zum Entfernen von Ätzmasken. Die Maschine verfügt zudem über ein integriertes hochpräzises Druckregelwerkzeug, das zum präzisen Ätzen und Aschen eingesetzt werden kann. Der Ätzvorgang wird mit einem chemischen Mittel durchgeführt, das mit dem Material in der Gasphase reagiert und zur präzisen Ätzung des Films verwendet wird. Der Aschevorgang wird mit einem Oxidationsmittel durchgeführt, mit dem unerwünschtes Material von Oberflächen weggeätzt wird. Dieses Verfahren ermöglicht eine präzise Asche ohne Restschicht und eine höhere Genauigkeit als bei anderen Verfahren. NE-950EXk Anlage ist zudem mit drei unabhängig steuerbaren Gasquellen, Temperatursensoren und einem Massenstromregler ausgestattet, um ein präzises Ätzen und Veraschen zu ermöglichen. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine Kammerdrucküberwachungseinrichtung, die präzise und wiederholbare Vakuumergebnisse ermöglicht. Neben dem Ätzen und Aschen können ULVAC NE-950EXk auch Alben-Ionen, Sputter-deponierte Filme und Polymerfilme herstellen. Darüber hinaus ermöglicht das vielseitige System eine mehrschichtige Substratverarbeitung. Zusammenfassend ist NE-950EXk eine hochpräzise Ätz- und Ascheeinheit, die qualitativ hochwertige Ergebnisse mit breiten Ätztiefen und engen Linienbreiten erzielen kann. Das integrierte hochpräzise Druckkontrollwerkzeug und die einzigartige Ätztechnologie machen es auch zu einer großartigen Lösung für die Herstellung von Folien mit präzisen und wiederholbaren Ätztiefen und engen Linienbreiten. Schließlich ermöglicht die Vielseitigkeit des Geräts es auch, Sputter-abgeschiedene Filme, Ionenstrahl-Abscheidung und mehrere Schichten von Substraten zu produzieren.